메뉴 건너뛰기
.. 내서재 .. 알림
소속 기관/학교 인증
인증하면 논문, 학술자료 등을  무료로 열람할 수 있어요.
한국대학교, 누리자동차, 시립도서관 등 나의 기관을 확인해보세요
(국내 대학 90% 이상 구독 중)
로그인 회원가입 고객센터 ENG
주제분류

추천
검색
질문

논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
저널정보
한국정보기술학회 Proceedings of KIIT Conference 한국정보기술학회 2007년도 하계학술발표논문집
발행연도
2007.6
수록면
686 - 690 (5page)

이용수

표지
📌
연구주제
📖
연구배경
🔬
연구방법
🏆
연구결과
AI에게 요청하기
추천
검색
질문

초록· 키워드

오류제보하기
본 연구에서는 ALD 시스템을 이용하여 성장된 HfO₂ 산화막을 MMIC에 적용하기 위하여 MIM 케패시터 소자를 설계 제작하였다. 유전막으로 사용되는 HfO₂ 박막의 특성을 최적화하고,RF 응용을 위한 MIM 구조의 케패시터를 제작하여 DC 및 RF 동작특성을 확인 하였으며, 최적의 공정 조건을 확보하였다.

목차

요약
ABSTRACT
Ⅰ. 서론
Ⅱ. ALD-HfO₂를 이용한 MIM구조 시편제작
Ⅲ. ALD-HfO₂를 이용한 MIM 케패시터 소자의 DC 및 RF 특성
Ⅳ. 결론
참고문헌

참고문헌 (0)

참고문헌 신청

함께 읽어보면 좋을 논문

논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!

이 논문의 저자 정보

이 논문과 함께 이용한 논문

최근 본 자료

전체보기

댓글(0)

0

UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2009-566-016956483