Boron, Nitrogen doping에 따른 amorphous carbon layer 분석연구

정원준 ,  Rauf Shahzad ,  신재수 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Development of Low Damage Dry Etch to Pattern Sub-10 nm with ACL and High-χ BCP mask

오지수 ,  김교운 ,  신예지 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

원자층 식각기술

염근영

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

Atomic layer etching of SiO₂ with low-global warming potential C₄H₃F₇O isomers

Yongjae Kim ,  Yebin Lee ,  Seonghyeon Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges

Kyongnam Kim

Applied Science and Convergence Technology

2024 .09

C₃F₆O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석

김선웅 ,  양경채 ,  이호석 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .08

Effects of surface etching on microstructure and mechanical strength of carbon fibers

Kim ,  Kwan-Woo ,  Jeong 외 7명

Carbon letters

2018 .01

식각된 LED의 식각 깊이와 식각 각도가 광 추출 효율에 미치는 영향

권기영 ,  기장근

새물리

2020 .10

Applications of fluid based plasma simulation : dry etch

주정훈

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment

양경채 ,  박성우 ,  김경남 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Damage - Free Layer Control of MoS2 Using Atomic Layer Etching

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Ultrathin BP layer fabrication by photochemical etching

김정원

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Magnetic Properties and Hysteresis Loss Improvement of Fe Alloy Powder by NH₄OH Etching

Sunwoo Lee ,  Sungjoon Choi ,  Jae-Hyoung You 외 1명

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2017 .05

Sensitivity Enhancement of Fault Detection in Plasma Etching Processes using Optical Emission Spectroscopy with Multivariate Analysis

Hakseung Lee ,  Haegyu Jang ,  Honyoung Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .02

다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석

이호석 ,  양경채 ,  박성우 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Effects of etch-back on Cell for an Advanced Vertical NAND Manufacturing Process using gas reactor

이용준 ,  박기홍 ,  김태성

한국진공학회 학술발표회초록집

2021 .02

Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구

오지수 ,  김교운 ,  김희주 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

A study on the ion beam etching characteristics in the high aspect ratio contact

Ilhyeong LEE ,  Jongkyu KIM ,  Jongsoon PARK 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

A perspective on patents on dry etching apparatus

Min W. LEE ,  In H. LEE ,  Jun S. LEE 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Effects of pulsed inductively coupled Cl₂/Ar plasma for the etching of Si nanostructure

신예지 ,  김교운 ,  김희주 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02