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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술대회자료
- 저자정보
- 발행연도
- 2021.2
- 수록면
- 86 - 86 (1page)
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Atomic layer control of semiconductor processing is essential as critical dimensions are reduced below the 10nm scale. [1,2,3] In this work, cyclic plasma atomic layer etching process was conducted for SiO<sub>2</sub> with surface modification in an inductively coupled plasma (ICP) reactor with f ... 전체 초록 보기
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