Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride using a VHF (162 MHz) plasma source

You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ki Seok Kim 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Silicon nitride deposition by VHF (162 MHz)-PECVD using a multi-tile push-pull plasma source

Ki Seok KIM ,  Albe ,  t Roge 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

Plasma enhanced atomic layer deposition of silicon nitride films using a VHF (162 ㎒) multi-tile push-pull plasma source

You Jin Ji ,  Ki Hyun Kim ,  Ki Seok Kim 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

Silicon nitride deposition for flexible organic electronic devices by very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition using a multi-tile push-pull plasma source

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

초고주파 (162 MHz) 다중 분할 전극 플라즈마 소스를 이용한 silicon nitride PEALD 공정연구

지유진 ,  김기석 ,  김기현 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2019 .08

Characteristics of low temperature cobalt thins films deposited by VHF PEALD (60 and 100 MHz)

Won Kyun Yeom ,  Chang Hoon Song ,  Geun Young Yeom

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Structural evolution and highly active reaction in direct plasma process on 4H-SiC

김대경 ,  조만호

한국진공학회 학술발표회초록집

2017 .02

Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma

Kwan-Yong Kim ,  Kyung-Hyun Kim ,  Young-Hun Hong 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Structural Evolution and Electrical Properties of Highly Active Plasma Process on 4H-SiC

Dae-Kyoung Kim ,  Mann-Ho Cho

Applied Science and Convergence Technology

2017 .09

Analysis and making multi-functional electrode employing composite plasma electrolytic oxidation

Sumi Jung ,  Dahye Sung ,  Seonhong Lee 외 2명

한국분석과학회 학술대회

2016 .11

VHF-PECVD for a-Si:H and a-SiN:H Film Deposition

Jin Seok Kim

Applied Science and Convergence Technology

2019 .09

낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구

탁현우 ,  문룡 ,  성다인 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Pure Cobalt Thin Film by using Very High frequency (60MHz) Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition

Chang Hoon Song ,  Won Kyun Yeom ,  Doo San Kim 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .08

Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters

Seolhye Pa ,  k ,  Juyoung Lee 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2015 .08

마이크로스트립 라인을 이용한 마이크로웨이브 플라즈마 기술 및 응용

김재호

진공이야기

2020 .09

Synthesis and Characterization of ThMn₁₂-type by nitridation reaction

Kang-Hyuk Lee ,  Sang-Im Yoo

한국자기학회 학술연구발표회 논문개요집

2019 .11

Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas

김희주 ,  신예지 ,  김교운 외 4명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .02

Microwave Plasma Source Optimization for Thin Film Deposition Applications

Mahmoud A. I. Elga ,  hy

Applied Science and Convergence Technology

2022 .03

Plasma nitridation of atomic layer deposition-Al2O3 by NH3 in PECVD

Ham cho ,  om Cha ,  Young Joon Cho 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Plasma impedance matching technique for bio plasma RF source

Kwang Ho JANG ,  Bo Ki KIM ,  Jin Joo CHOI 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08