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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
배철훈 (인천대학교)
저널정보
한국산학기술학회 한국산학기술학회 논문지 한국산학기술학회논문지 제20권 제3호
발행연도
2019.3
수록면
29 - 34 (6page)

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SiC는 큰 에너지 밴드 갭을 갖고, 불순물 도핑에 의해 p형 및 n형 전도의 제어가 용이해서 고온용 전자부품 소재로 활용이 가능한 재료이다. 특히 N2 분위기, 2000℃에서 β-SiC 분말로부터 제조한 다공질 n형 SiC 반도체의 경우, 800~1000℃ 에서의 도전율 값이 단결정 SiC와 비교해서 비슷하거나 오히려 높은 값을 나타내었으며, 반면에 열전도율은 치밀한 SiC 세라믹스와 비교시 1/10∼1/30 정도로 낮은 값을 나타내었다. 본 연구에서는 소결온도를 낮추기 위해 n형 β-SiC에 함침 시킨 polycarbosilane (PCS)의 열분해에 의한 반응소결 공정 (1400~1600℃)으로 다공질 소결체를 제작하였다. 함침 및 소결공정(N2 분위기, 1600℃, 3시간)을 반복함에 따라 상대밀도는 크게 증가하지 않았지만 Seebeck 계수 및 도전율은 크게 증가하였다. 본 연구에서의 열전변환 효율을 반영하는 power factor는 고온에서 상압소결 공정으로 제작한 다공질 SiC 반도체에 비해 1/100~1/10 정도 작게 나타났지만, 미세구조 및 캐리어 밀도를 정밀하게 제어하면, 본 연구에서의 반응소결 공정으로 제작한 SiC 반도체의 열전물성은 크게 향상될 것으로 판단된다.

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
References

참고문헌 (13)

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