Electrical characteristics of HfO2/La2O3/HfO2 films deposited  by ECR-ALD

박종완

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자료유형: 학술저널

저자정보: 박종완

저널정보: 한양대학교 세라믹공정연구센터 Journal of Ceramic Processing Research Journal of Ceramic Processing Research 제11권 제5호

발행연도: 2010.1

수록면: 598 - 601 (4page)

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A.R. Teren / 2005 / / Thin Solid Films 478 : 206 ~ 217

B.C. Lai / 1999 / / J. Elecrochem. Soc. 146 : 266 ~ 269

B.S. Lim / 2003 / / Nat. Mater 2 : 749 ~ 754

D.S. Jeong / 2005 / / Appl. Phys. Lett. 86

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