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한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제16권 제1호
발행연도
2015.1
수록면
34 - 36 (3page)

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Amorphous SiZnSnO(SZTO) thin film transistors(TFTs) have been fabricated by RF magnetron sputtering process,and they were annealed in air and in wet ambient. The electrical performance and the structure were analyzed byI-V measurement, XPS, AFM, and XRD. The results showed improvement in device performance by wet annealingprocess compared to air annealing treatment, because free electron was shown to be increased due to reaction ofoxygen and hydrogen generating oxygen vacancy. This is understood by the generation of free electrons. We expect thewet annealing process to be a promising candidate to contributing to high electrical performance of oxide thin filmtransistors for backplane device applications.

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