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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국진공학회(ASCT) Applied Science and Convergence Technology 한국진공학회지 제15권 제3호
발행연도
2006.5
수록면
259 - 265 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2006

RF-O₂ Plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율 측정
정원희 ,  정강원 ,  임연찬 외 6명 Applied Science and Convergence Technology 2006.05 학술저널
집속이온빔 장치를 이용한 RF O₂ -Plasma 처리한 MgO 보호막의 스퍼터링 수율 측정
정원희 ,  손창길 ,  정강원 외 7명 한국진공학회 학술발표회초록집 2006.02 학술대회자료

초록· 키워드

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RF-O₂ plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율을 집속이온빔 장치를 이용하여 측정하였다. 가속 전압 10 ㎸의 Ga 이온빔을 주사했을 때 plasma 처리하지 않은 MgO 박막의 스퍼터링 수율은 0.33 atoms/ion, RF-O₂ plasma 처리한 MgO 박막의 스퍼터링 수율은 0.20 atoms/ion 으로 RF-O₂ plasma 처리한 경우 스퍼터링 수율이 낮아졌다. 또한 XPS, AFM을 통해 plasma 처리로 인한 MgO 표면의 변화를 관찰하였다. MgO 박막에 RF-O₂ plasma 처리 한 후 XPS O 1s spectra의 binding energy와 FWHM 값이 각각 2.36 eV와 0.6167 eV 작아졌고 표면거칠기의 RMS 값 또한 0.32 ㎚ 작아졌다.
#MgO 박막 #집속이온빔 #스퍼터링 수율 #Ga 이온빔 #RF-플라스마 #MgO thin film #FIB #Sputtering yield #Ga ion beam #RF-plasma

목차

국문초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험 방법
Ⅲ. 실험 결과
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
Abstract

참고문헌 (0)

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