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논문 기본 정보

자료유형
학술대회자료
저자정보
강길범 (한국과학기술연구원 나노소자연구센터) 이창우 (국민대학교 나노전자물리학과) 김용태 (한국과학기술연구원 나노소자연구센터) 김성일 (한국과학기술연구원 나노소자연구센터)
저널정보
한국반도체디스플레이기술학회 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 한국반도체및디스플레이장비학회 2007년도 춘계학술대회
발행연도
2007.1
수록면
90 - 93 (4page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2007

블록 공중합체 박막을 이용한 금 나노점 및 실리콘 나노점의 형성
강길범 ,  이창우 ,  김용태 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2007.01 학술대회자료
블록 공중합체 박막을 이용한 실리콘 나노점의 형성
강길범 ,  김성일 ,  김영환 외 3명 마이크로전자 및 패키징학회지 2007.01 학술저널

초록· 키워드

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밀도가 높고 주기적으로 배열된 실리콘 나노점이 실리콘 기판위에 형성 되었다. 실리콘 나노점을 형성하기 위해 사용된 나노패턴의 지름은 20 나노미터(nm)이고 깊이는 40 nm 이었으며 기공과 기공사이의 거리는 50 nm 였다. 나노미터 크기의 패턴을 형성시키기 위해서 자기조립물질을 사용했으며 폴리스티렌(PS) 바탕에 벌집형태로 평행하게 배열된 실린더 모양의 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA)의 구조를 형성하였다 폴리메틸메타아크릴레이트를 아세트산으로 제거하여 폴리스티렌만 남아있는 나노크기의 마스크를 만들었다. 형성된 나노패턴에 전자빔 기상증착장치를 사용하여 금 박막을 $100\;{\AA}$ 증착하고 리프트오프(lift-off) 방식으로 금 나노점을 만들었다. 형성된 금 나노점을 불소기반의 화학반응성 식각법을 이용하여 식각하고 황산으로 제거하였다. 형성된 실리콘 나노점의 지름은 24 nm 였고 높이는 20 nm 였다.

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