블록 공중합체 박막을 이용한 실리콘 나노점의 형성

강길범; 김성일; 김영환; 박민철; 김용태; 이창우

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자료유형: 학술저널

저자정보: 강길범 김성일 김영환 박민철 김용태 이창우

저널정보: 한국마이크로전자및패키징학회 마이크로전자 및 패키징학회지 마이크로전자 및 패키징학회지 제14권 제2호

발행연도: 2007.1

수록면: 17 - 22 (6page)

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연구결과

이 논문의 연구 히스토리 (2)

2007

블록 공중합체 박막을 이용한 금 나노점 및 실리콘 나노점의 형성

강길범 , 이창우 , 김용태 외 1명 한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회 2007.01 학술대회자료

블록 공중합체 박막을 이용한 실리콘 나노점의 형성

강길범 , 김성일 , 김영환 외 3명 마이크로전자 및 패키징학회지 2007.01 학술저널

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Dense and periodic arrays of holes and Si nano dots were fabricated on silicon substrate. The nanopatterned holes were approximately 15~40 nm wide, 40 nm deep and 40~80 nm apart. To obtain nano-size patterns, self-assembling diblock copolymer were used to produce layer of hexagonaly ordered parallel cylinders of polymethylmethacrylate (PMMA) in polystyrene(PS) matrix. The PMMA cylinders were degraded and removed with acetic acid rinse to produce a PS. 100 -thick Au thin film was deposited by using e-beam evaporator. PS template was removed by lift-off process. Arrays of Au nano dots were transferred by using Fluorine-based reactive ion etching(RIE). Au nano dots were removed by sulfuric acid. Si nano dots size and height were 30~70 nm and 10~20 nm respectively.

#nanotemplate1. 서?론두 가지 이상의 고분자 사슬이 공유결합으로 이루어진 블록 공중합체는 자기조립성질 때문에 미세상 #micro phase)으로 분리된다. 한 분자 내에 존재하는 서로 다른 블록들은 상구조 분리를 일으키려하나 이들을 연결하고 있는 공유결합에 의해 그 정도가 제한되어 마이크로 상분리가 #diblock copolymer #copolymer lithography #reactive ion etching #Si nano dot

참고문헌 (8)

참고문헌 신청

/ 1997 / Block Copolymer Lithography: Periodic Arrays of ~1011 Holes in 1 Square Centimeter 276 : 1401 ~

/ 2000 / Ultrahigh-Density Nanowire Arrays Grown in Self-Assembled Diblock Copolymer Templates 290 : 2126 ~

/ 2001 / Integration of self-assembled diblock copolymers for semiconductor capacitor fabrication 79 : 409 ~

/ 2001 / Large area dense nanoscale patterning of arbitrary surfaces 79 : 257 ~

/ 2002 / Optimization of Diblock Copolymer Thin Film Self Assembly 14 (18) : 1290 ~

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