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MOSFET에서 Gate Oxide층의 교류 절연파괴 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .11
An Analytical Model for the Effect of Graded Gate Oxide in MOSFET`s
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
The reliability analysis in gate oxide of MOSFET via percolation models
대한산업공학회 추계학술대회 논문집
2008 .11
두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1999 .07
Gate Oxide Thickness- and Channel Length-Dependent Subthreshold Swing Characteristics for Double-gate MOSFETs
INTERNATIONAL CONFERENCE ON FUTURE INFORMATION & COMMUNICATION ENGINEERING
2011 .06
Ti-Ploycide 게이트에서 게이트산화막의 전연파괴특성
한국재료학회지
1993 .01
박막 게이트 산화막을 갖는 n-MOSFET에서 SILC 및 Soft Breakdown 열화동안 나타나는 결함 생성
전자공학회논문지-SD
2004 .08
CVD oxide와 aluminum의 이온밀링 특성 ( Ion milling characteristics of CVD oxide and aluminum )
대한전자공학회 학술대회
1988 .11
산화전 분위기가 Gate Oxide 특성에 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
탑 게이트 탄소나노튜브 트랜지스터 특성 연구
센서학회지
2007 .01
Gate 전하를 감소시키기 위해 Separate Gate Technique을 이용한 Trench Power MOSFET
전기전자학회논문지
2012 .12
산화막 및 재산화질화산화막을 적용한 MOSFET의 성능저하 특성 ( Degradation of A MOSFET to Apply Oxide and Reoxidized-Nirided-Oxide to A Gate Dielectric )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Tin Oxide Films Deposited by Ozone Assisted Thermal CVD
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Grooved Gate MOSFET의 해석적 모델에 관한 연구
한국통신학회 학술대회논문집
1991 .11
Grooved Gate MOSFET의 해석적 모델에 관한 연구 ( A Study on the Analytical Model for Grooved Gate MOSFET )
한국통신학회 학술대회논문집
1991 .01
박막 게이트 산화막의 열화에 의해 나타나는 MOSFET의 특성 변화
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
비대칭 MOSFET 소자에서 gate oxide의 re-oxidation process의 공정방법 및 효과
대한전자공학회 학술대회
2012 .06
Fluorine Effects on NMOS Characteristics and DRAM Refresh
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2012 .03
퍼콜레이션 모델을 이용한 게이트 옥사이드의 신뢰성 예측
대한산업공학회 춘계공동학술대회 논문집
2008 .05
폴리게이트의 양자 효과에 따른 Double-Gate MOSFET의 단채널 효과 분석
대한전자공학회 학술대회
2003 .07
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