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자료유형
학술저널
저자정보
우상균 (한양대학교 재료공학부) 김상훈 (한양대학교 재료공학부) 주섭열 (한양대학교 재료공학부) 안진호 (한양대학교 재료공학부)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제10권 제12호
발행연도
2000.1
수록면
819 - 824 (6page)

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본 연구에서는 Electron Cyclotron Resonance plasma etching system 을 이용한 Ta 박막의 미세 식각 특성을 연구하였다. 염소 plasma를 사용하여 microwave power, RF Power, working pressure, gas chemistry 등의 변화에 따른 식각 profile의 영향을 조사하였고, pattern density가 증가함에 따라 발생하는 microloading 현상을 $0.2{\mu\textrm{m}}$ 이하의 패턴에서 확인 하였다. 이를 개선하기 위하여 식각 과정을 두 단계로 분리하는 2단계 식각 공정을 수행하였으며 이를 통해 우수한 식각 profile을 얻을 수 있었다.
#plasma etching #microloading effect #microwave power #double step etching #Ar actinometry

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