플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  김말문 외 1명

전자공학회논문지

1987 .01

플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )

이진희 ,  박성호 ,  남기수 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1985 .01

신경회로망을 이용한 플라즈마 식각공정제어에 관한 연구

차상엽 ,  고택범 ,  유정식 외 4명

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

1995 .10

플라즈마 식각 공정이 N2O 산화막과 순수한 산화막을 갖는 MOS 소자 특성에 미치는 영향에 관한 연구 ( A Study on the Effect of Plasma Etching Process on the Characteristics of MOS Devices with N2O and Pure Gate Oxides )

윤재석 ,  이상돈 ,  김봉렬

전자공학회논문지-A

1996 .09

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

나노 반도체 소자를 위한 펄스 플라즈마 식각 기술

양경채 ,  박성우 ,  신태호 외 1명

한국표면공학회지

2015 .12

The Study on the Change of Surface Characteristics by Plasma Dry Etching

명노선

전자공학회지

2020 .02

PCR 장치를 위한 플라즈마 식각에 관한 연구

김진현 ,  류근걸 ,  이종권 외 2명

청정기술

2003 .09

플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링

유정식 ,  하대원 ,  우광방 외 2명

제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집

1994 .10

플라즈마 식각공정의 신경회로망 모델링 ( Neural Network Modeling of Plasma Etching Process )

유정식 ,  고택범 ,  차상엽 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

Plasma etching behavior of RE-Si-Al-O glass (RE: Y, La, Gd)

이정기 ,  황성진 ,  이성민 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

2010 .01

플라즈마 식각 라디칼의 신경망 모델링

김우석 ,  김병환

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

Surface Analysis of Fluorine-Plasma Etched Y-Si-Al-O-N Oxynitride Glasses

Lee ,  Jung-Ki ,  Hwang 외 5명

한국재료학회 학술발표대회

2009 .01

Remote 플라즈마에서 위치 및 반응기체에 따른 PMMA의 식각 특성 분석

고천광 ,  이원규

화학공학

2006 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01