($Ar+N_2$)분위기 중에 제작된 Fe-B-Si-N 합금 박막의 연자기적 성질

박지종 ,  김종오

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Plasma Properties of Dual-Frequency Inductively Coupled Plasma Source

이승민 ,  김경남 ,  김태형 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Plasma Properties by Pulsed Inductively Coupled Plasma Source using Dual Frequency

김태형 ,  김경남 ,  이승민 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2014 .05

Damage-Free Treatment of ITO Films using Nitrogen-Oxygen (N₂-O₂) Molecular DC Plasma

Hong Tak Kim ,  Thao Phoung Ngoc Nguyen ,  Chinho Pa 외 1명

Current Photovoltaic Research

2015 .12

Plasma surface kinetics studies of silicon oxide etch process in fluorocarbon plasmas

Won-Seok Chang ,  Yeong-Geun Yook ,  Poo-Reum Chun 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

A Study On the Retention Time Distribution with Plasma Damage Effect

Yi Jae Young ,  Szi ,  may Laszlo 외 1명

ICEIC : International Conference on Electronics, Informations and Communications

2004 .08

Fabrication of soluble organic thin film transistor with ammonia ($NH_3$) plasma treatment

Kim ,  Dong-Woo ,  Kim 외 11명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2009 .01

PLASMA EFFECTS ON HUMAN LIVER CANCER CELLS

Daeyeon Kim ,  Bomi Gweon ,  Danbee Kim 외 6명

대한기계학회 춘추학술대회

2008 .05

Study of optical emission spectroscopy measurement in oxide thin film deposition process for plasma

Tae-Hoon Jo ,  Myoung-Soo Yun ,  HyeJin Pa 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

Study of Plasma Process Induced Damages on Metal Oxides as Buffer Layer for Inverted Top Emission Organic Light Emitting Diodes

Kim ,  Joo-Hyung ,  Lee 외 7명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2008 .01

Dry Etching Characteristics of Zinc Oxide Thin Films in Cl_2-Based Plasma

Jong-Chang Woo ,  Tae-Kyung Ha ,  Chen Li 외 5명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2011 .01

Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source

Jin. Seock. Seo ,  Kyung ,  Jun 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

The effect of plasma damage on electrical properties of amorphous GaInZnO film

Kim ,  Min-Kyu ,  Pa 외 18명

한국정보디스플레이학회 International Meeting

2007 .01

섬유의 Plasma 가공(Ⅰ) : plasma 처리화학

廣津敏博 ,  曺煥

한국염색가공학회지

1991 .09

우리의 Dual Society의 문제

이기현

소프트웨어세계

2001 .01

Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성

김미숙 ,  정창현 ,  임종태 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

Plasma Interaction with Soft Materials in Liquid as Fundamental Processes in Plasma Medicine

Kosuke Takenaka ,  Atsushi Miyazaki ,  Hi 외 3명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

COMPARISON OF PLASMA-INDUCED SURFACE DAMAGES IN VARIOUS PLASMA SOURCES

Donghyen Yi ,  Jun-Sik Lee ,  Sang-Kyun Kim 외 1명

한국표면공학회지

1996 .10