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Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적 특성 ( Fabrication and Electrical Characteristics P+-N Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
고속열확산에 의한 얕은접합 형성과 Ti- 실리사이드화 된 n+-p 다이오드 특성분석
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+-N 극저접합 다이오드의 제작과 전기적특성
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
Co/Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 p+ - n 극저접합의 형성 ( Formation of p+ - n Ultra Shallow Junction with Co/Ti Bilayer Silicide Contact )
전자공학회논문지-D
1998 .05
Co / Ti 이중막 실리사이드 접촉을 갖는 P+ -N 극저접합의 형성 ( Formation of P-N Ultra Shallow Junction with The Co / Ti Bilayer Silicide Contact )
대한전자공학회 학술대회
1996 .11
Ti Self-Aligned Silicide를 이용한 Contact에서의 전기적 특성
전기학회논문지
1992 .02
Al-1%Si 과 Ti-Silicide의 반응성에 관한 연구 ( A Study on the Reaction of Al-1%Si with Ti-Silicide )
대한전자공학회 학술대회
1992 .01
Characterization of Reverse Leakage Current of Shallow Silicide Junction
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1997 .01
Fabrication and Properties of the Ti-Silicided Emitter Tip Arrays
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
실리사이드를 이용한 새로운 고내구성 실리콘 전계방출소자의 제작
한국재료학회지
2000 .01
고농도 도핑된 Si 기판상에 Co/Ti 이중막 실리사이드 형성과 특성 연구
전자공학회논문지-IE
2003 .12
고속열확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti-실리사이드화 된 n+ -P 다이오드 특성분석 ( The formation of the Shallow Junction by Rapid Thermal Diffusion and characteristic Analysis for n+ -p Diode with Ti-silicide )
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
고속 열 확산에 의한 얕은 접합 형성과 Ti - 실리사이드화된 n - p 다이오드 특성 분석 ( The Formation of the Shallow Junction by RTD Characteristic Analysis for n - p Diode with Ti - silicide )
전자공학회논문지-A
1994 .08
Ti-실리사이드 형성에 관한 연구 ( A Study on the Ti-Silicide Formation )
대한전자공학회 학술대회
1987 .07
Composite Target으로 증착된 Ti-Silicide의 형성 ( The Formation of Ti-Silicide Deposited With Composite Target )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
니켈 코발트 합금조성에 따른 복합실리사이드의 물성 연구
한국재료학회지
2007 .01
Molybdenum and Cobalt Silicide Field Emitter Arrays
Journal of information display
2000 .01
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가 ( Fabrication and Emission Characteristics of the Ti-Silicided Field Emitter Arrays )
대한전자공학회 학술대회
1997 .07
Ti-실리사이드 전계방출소자의 제작 및 전기적 특성 평가
대한전자공학회 학술대회
1997 .06
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