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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2019.1
- 수록면
- 53 - 57 (5page)
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In this study, we prepared sputtering cathode for large sputtering thin film in the facing targets sputtering(FTS) system. Before fabrication of cathode equipment, we investigated optimal magnetic flux in the sputtering cathode by using magnetic field stimulation(Comsol). According to the result of magnetic field stimulation, we manufactured the cathode. After we mounted laboratory-designed cathode on FTS system, the discharge properties were observed in vacuum condition. In addition, ITO films were deposited on glass substrate and their electrical and optical properties were investigated by various measurements (four-point probe, UV-VIS spectrometer, field emission scanning electron microscopy(FE-SEM), Hall-effect measurement).
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H. Hosono / 2002 / Frontier of transparent conductive oxide thin films / Vacuum 66:419~425
S. Swanm / 1988 / Magnetron sputtering / Phys. Thecnol 19
C. T. Liu / 2009 / Enhancements of Substrate Deposition Rate and Target Erosion / IEEE Trans. Magn 45(10)
M. A. Lieberman / 2005 / Principles of Plasma Discharges and Materials Processing / John Wiely & Sons
P. C. Gregory / 2005 / Flexible flat panel displays / John Wiley & Sons
S. Swanm / 1988 / Magnetron sputtering / Phys. Thecnol 19
C. T. Liu / 2009 / Enhancements of Substrate Deposition Rate and Target Erosion / IEEE Trans. Magn 45(10)
M. A. Lieberman / 2005 / Principles of Plasma Discharges and Materials Processing / John Wiely & Sons
P. C. Gregory / 2005 / Flexible flat panel displays / John Wiley & Sons
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