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심홍균 (SK 하이닉스(주)) 송용원 (한국산업기술대학교) 이광준 (SK 하이닉스(주))
저널정보
아태인문사회융합기술교류학회 아시아태평양융합연구교류논문지 아시아태평양융합연구교류논문지 제7권 제2호
발행연도
2021.1
수록면
99 - 109 (11page)

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The production of high quality semiconductors have been incessantly contributing to the development of advanced technological devices answering many of today’s industrial and societal needs. This paper presents an example of problem solving in the equipment front-end module (EFEM)[1] in the Fab etching process, where wafers are transferred under atmospheric pressure. Toxic gaseous impurities called fumes are generated upon completion of wafer processing. Because of these fumes, problems such as internal corrosion in the EFEM and wafer quality degradation may occur. The root causes of fume[2] retention were confirmed through functional analysis, and the technical contradictions were analyzed to reveal that fumes were not completely discharged owing to internal obstacles and air current problems. From the functional interaction analysis, the functions of each part were defined and analyzed. Further, a case discussion for solving the problems caused by inadequate fume clearance is presented using the TRIZ technique, specifically the 40 inventive principles on invention, separation rules, and trimming. The aim of this study is to demonstrate how TRIZ can effectively help to solve problems in industrial applications and thereby provide economic benefits.

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