Optimization of annealing capping layer thickness of vertical β-Ga₂O3₃ Schottky barrier diodes for high-temperature oxygen annealing process

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저자정보: Junhee Lee (Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology (DGIST)) Hongki Kang (Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology (DGIST))

이용수

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