Wet 게이트 산화막과 Nitride 산화막 소자의 특성에 관한 연구

이용희 ,  최영규 ,  류기한 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1999 .06

플래시 EEPROM 셀에서 ONON ( oxide-nitride-oxide-nitride ) Inter-Poly 유전체막의 신뢰성 연구 ( Study of the Reliability Characteristics of the ONON ( oxide-nitride-oxide-nitride ) Inter-Poly Dielectrics in the Flash EEPROM cells )

신봉조 ,  박근형

전자공학회논문지-D

1999 .10

CHARACTERISTICS OF STACKED OXIDE-NITRIDE-OXIDE FILMS FOR HIGH DENSITY DRAM CELL CAPACITOR

S. H. Choi ,  J. S. Choi ,  S. T. Kim 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1989 .01

Hot Carrier Effect of n-MOSFET with Ultrathin Oxides Grown by High Pressure Oxidation and Nitrided in N2O

Tae Moon Roh ,  Dae Woo Lee ,  Jong Dae Kim 외 2명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1997 .01

ONO ( Oxide-Nitride-Oxide ) 막의 EEPROM 적용 가능성에 관한 연구 ( A Study on the Application of ONO ( Oxide-Nitride-Oxide ) Film to EEPROM as Interpoly Dielectrics )

김종우 ,  이수철 ,  전성오 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1988 .01

저압가스질화에서 탄소강의 초기 화합물층 형성 거동

김윤기 ,  김상권

한국표면공학회지

2011 .06

Electrical and Physical Properties of Ultrathin Reoxidized Nitrided Oxide Grown by Rapid Thermal Processing

박훈수

KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING

1990 .01

CHARACTERIZATION OF OXIDES FORMED ON SILICON NITRIDE SURFACES DURING HIGH TEMPERATURE FRICTION TESTS

Kazuyuki MIZUHARA

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1997 .05

MONOS 플래시 메모리의 Nitride 트랩 분석

양승동 ,  윤호진 ,  김유미 외 5명

전자공학회논문지

2015 .08

ROLE OF ULTRATHIN ALUMINUM OXIDE AS A PASSIVATING TUNNEL OXIDE LAYER

Subhajit DUTTA ,  Kuma ,  MALLEM 외 5명

AFORE

2018 .08

Fabrication of Silicon Quantum Dots on Oxide and Nitride

Il Gweon Kim ,  Hyung Sik Kim ,  Jong Ho Lee 외 1명

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

포스트 플라즈마를 이용한 질화의 질화층 형성에 미치는 전처리의 영향에 대한 연구

문경일 ,  변상모 ,  조용기 외 2명

열처리공학회지

2005 .01

Hydrogen and Alkali Ion Sensing Properties of Ion Implanted Silicon Nitride Thin Film

박구범

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2008 .01

재산화된 질화 산화막의 전하 포획 특성 연구 ( A Study on the Charge Trapping Properties of ONO ( Oxide Nitride Oxide ) Dielectric Film )

이종순 ,  윤석범 ,  박광균 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1991 .11

두께 변화에 따른 Gate Oxide의 전기적 특성

박정구 ,  홍능표 ,  이용우 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .07

The reliability analysis in gate oxide of MOSFET via percolation models

Mansoo Kim ,  Suk joo Bae

대한산업공학회 추계학술대회 논문집

2008 .11

Optimization of Silicon Quantum Dot Fabrication on Oxide and Nitride Films

Hyungcheol Shin ,  Jongho Lee

Journal of Electrical Engineering and information Science

1999 .08

New breakdown mechanism of ultrathin gate oxides under ballistic transport

이석희 ,  주문식 ,  조병진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1994 .01

온도 변화에 따른 THIN OXIDE 막의 전기적 특성에 관한 연구 ( THE STUDY OF ELECTRIC CHARACTERISTIC ABOUT THIN OXIDE FILM AT THE VARIABLE TEMPERATURE )

최진석 ,  이앙구 ,  박성식

대한전자공학회 학술대회

1986 .01

온도 변화에 따른 THIN OXIDE 악의 전기적 특성에 관한 연구

이앙구 ,  박성식 ,  최진석

대한전자공학회 학술대회

1986 .06