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Effects of Feed Gas Chemistry on Sf6 Based Tungsten Etching in a Helicon Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
Self-Aligned Contact Etching using High Density Plasma Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성
한국표면공학회지
1994 .12
Helicon Wave Plasma 보조 증발법을 이용한 ZnO/si(111) 박막의 성장과 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
Fault Detection of Plasma Etchers using Big Data Analysis
한국생산제조학회 학술발표대회 논문집
2014 .09
Helicon 고밀도 플라즈마를 이용한 0.5mm 이하의 텅스텐 식각 공정 연구 ( Helicon High Density Plasma Etching for Sub-Half Micron Tungsten Interconnections )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
Oxide Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
Helicon Wave 플라즈마 보조 증발법을 이용한 ZnO 박막의 성장과 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Characteristics of High Aspect Ratio Small Contact Etching in RIE Etcher
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구
한국표면공학회지
1998 .04
Etch Simulator 개발을 위한 High Density Oxide Etcher 식각 특성 분석
대한전자공학회 학술대회
1998 .01
A Study on the Plasma Etching of Ru Electrodes using O2/Cl2 Helicon Discharges
Corrosion Science and Technology
2003 .01
ICP Poly Etcher를 이용한 Poly-Si Dry Etch시 Gas Flow에 따른 Etching 특성 변화 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Dry Etcher 기술개발 동향과 발전
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2008 .01
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택 산화막 식각 ( A High Selectivity Oxide Etching with a Helicon Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
Effect of the Fluorine Treatment for the Reduction of Al ( Cu 1% ) Corrosion After Plasma Etching
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
플라즈마 식각장치내 노즐의 위치에 따른 희박기체유동 및 알루미늄 식각률의 변화에 관한 연구
대한기계학회 논문집 B권
2002 .10
Vibration Reduction of Spin Etcher
한국반도체및디스플레이장비학회 학술대회
2002 .01
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