헬리콘 플라즈마 물성특성 및 식각응용에 관한 연구

이병일 ,  도현호 ,  양일동 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11

헬리콘 플라즈마원의 특성

현준원 ,  노승정 ,  김경례 외 2명

한국표면공학회지

1999 .12

헬리콘 플라즈마 원을 이용한 우주 추진체의 특성

최근식 ,  우현종 ,  정규선 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

2005 .11

고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수 ,  이원정 ,  염근영

한국표면공학회지

1999 .04

C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구

김현수 ,  이원정 ,  백종태 외 1명

한국표면공학회지

1998 .04

Helicon 고밀도 플라즈마를 이용한 0.5mm 이하의 텅스텐 식각 공정 연구 ( Helicon High Density Plasma Etching for Sub-Half Micron Tungsten Interconnections )

이승욱 ,  최창주 ,  설여송 외 1명

대한전자공학회 워크샵

1996 .01

펄스 플라즈마를 이용한 식각

양경채 ,  김수강 ,  신예지 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .11

W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma

Seoung Wook Lee ,  Chang Ju Choi ,  Yeo Song Seol 외 1명

ICVC : International Conference on VLSI and CAD

1995 .01

SNU안테나에 의한 헬리콘 플라즈마의 SiO2 식각 특성 연구

이병일 ,  윤차근 ,  황기웅

대한전자공학회 학술대회

1995 .01

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성

김태영 ,  정기형 ,  이승학 외 1명

한국표면공학회지

1994 .12

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

헬리콘 플라즈마 CVD법에 의한 다이아몬드 박막의 특성

현준원 ,  김경례 ,  김용진 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .05

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher

Jae Hee Ha ,  M. H. Yim ,  J. J. Kim

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11