고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수; 이원정; 염근영

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김현수 이원정 염근영

저널정보: 한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제32권 제2호

발행연도: 1999.4

수록면: 93 - 99 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1999

고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰

김현수 , 이원정 , 염근영 한국표면공학회지 1999.04 학술저널

1998

C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구

김현수 , 이원정 , 백종태 외 1명 한국표면공학회지 1998.04 학술저널

C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 산화막 식각시 형성된 잔류막 손상층이 후속 실리사이드 형성 및 전기적 특성에 미치는 효과

김현수 , 이원정 , 이용혁 외 2명 한국진공학회 학술발표회초록집 1998.02 학술대회자료

1997

C₄F8 / H₂ 헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택비 산화막 식각공정시 실리콘 표면의 오염 및 손상에 관한 연구

김현수 , 이원정 , 염근영 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 1997.07 학술대회자료

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이원정

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주요연구분야 공학 > 기계공학 > 기계공학 일반

논문수 3 이용수 134

염근영

소속기관 성균관대학교

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