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이용수
Abstract
1. 서론
2. 실험 장치
3. 실험 결과 및 토의
4. 결론 및 향후 연구계획
[참고문헌]
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헬리콘 플라즈마원의 특성
한국표면공학회지
1999 .12
헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택 산화막 식각 ( A High Selectivity Oxide Etching with a Helicon Plasma )
대한전자공학회 학술대회
1997 .01
헬리콘 플라즈마 물성특성 및 식각응용에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .11
Helicon wave에 의하여 여기된 Ar 플라즈마 특성
한국표면공학회지
1994 .12
헬리콘 플라즈마 CVD법에 의한 다이아몬드 박막의 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
Helicon Wave 플라즈마 보조 증발법을 이용한 ZnO 박막의 성장과 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
고선택비 산화막 식각공정시 C₄F₈ 헬리콘 웨이브 플라즈마에 노출된 실리콘 표면의 잔류막 관찰
한국표면공학회지
1999 .04
Helicon 고밀도 플라즈마를 이용한 0.5mm 이하의 텅스텐 식각 공정 연구 ( Helicon High Density Plasma Etching for Sub-Half Micron Tungsten Interconnections )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
Helicon Wave Plasma 보조 증발법을 이용한 ZnO/si(111) 박막의 성장과 특성 평가
한국재료학회 학술발표대회
2002 .01
On the mechanism of power distribution in multiple ICP and Helicon sources
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
SNU안테나에 의한 헬리콘 플라즈마의 SiO2 식각 특성 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .01
W Etching for Sub-half Micron using the Helicon High Density Plasma
ICVC : International Conference on VLSI and CAD
1995 .01
C₄F₈/H₂ helicon wave 플라즈마를 이용한 contact 산화막 식각 공정시 과식각된 실리콘 표면의 잔류막과 손상층 형성 및 이의 제거에 관한 연구
한국표면공학회지
1998 .04
Carbon Nanotube Deposition using Helicon Plasma CVD at Low Temperature
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2003 .01
우주탐사 탑재체 보정을 위한 플라즈마 발생장치의 개발 및 초기 운용 결과
한국항공우주학회 학술발표회 초록집
2015 .11
Al Etch and After-Corrosion Characteristics in a M=0 Helicon Wave Plasma Etcher
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
우주통신에 있어서의 plasma의 응용
전기의세계
1964 .09
On-orbit Thermal Behavior of KOMPSAT Liquid-Monopropellant Hydrazine(N2H4) Propulsion System
한국추진공학회 학술대회논문집
2000 .04
우주 추진에서의 펄스 에너지 이용
한국항공우주학회 학술발표회 초록집
2009 .04
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