박막트랜지스터의 채널 내에 형성된 금속 유도 측면 결정화의 경계가 누설전류에 미치는 영향 ( Effect of Metal-Induced Lateral Crystallization Boundary Located in the TFT Channel Region on the Leakage Current )

김태경; 김기범; 윤여건; 김창훈; 이병일; 주승기

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자료유형: 학술저널

저자정보: 김태경 김기범 윤여건 김창훈 이병일 주승기

저널정보: 대한전자공학회 전자공학회논문지-SD 전자공학회논문지 SD편 제37권 제4호

발행연도: 2000.4

수록면: 31 - 37 (7page)

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