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이용수
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Experimental
Results and Discussion
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Deposition Mechanism of Tungsten thin Film in LPCVD System
Applied Science and Convergence Technology
1993 .09
LPCVD 조건하에서 SiH₄에 의한 WF6환원반응으로부터의 텅스텐 박막 증착 메커니즘에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Si₃N₄상에 PECVD법으로 형성한 텅스텐 박막의 특성
Applied Science and Convergence Technology
1998 .05
저압에서의 사일렌과 디사일렌의 열분해 반응에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1995 .12
Si nano dots growth using pulse-type gas feeding with Si₂H₆ in LPCVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .08
Characteristics of Oxide Films Deposited with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures From SiH₄-N₂O
Applied Science and Convergence Technology
1994 .12
SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성
Applied Science and Convergence Technology
2004 .09
: LPCVD 실리콘 박막의 저온 열처리에 따른 결정화 거동에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
Fabrication of nc-Si/SiO₂ Multi-Layer Structure by using LPCVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2005 .08
마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착
Applied Science and Convergence Technology
1992 .06
Process Optimization of PECVD SiO2 Thin Film Using SiH4/O2 Gas Mixture
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
LPCVD 공정시간에 따른 silicon 의 결정화 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .08
LPCVD법으로 증착된 비정질 실리콘박막의 고상결정화에 미치는 자기이온주입효과
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
Preparation and Stability of Silyl Adlayers on 2×1-Reconstructed and Modified Si(100) Surfaces
Applied Science and Convergence Technology
2009 .01
LPCVD를 이용한 Poly-Si박막 증착 및 박막 트랜지스터 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
Chemical Vapor Deposition of Ga₂O₃ Thin Films on Si Substrates
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
Si₂H6와 H₂ 가스를 이용한 LPCVD내에서의 선택적 Si 에피텍시 성장에 미치는 산소의 영향
Applied Science and Convergence Technology
2002 .04
Microstructure and Electrical Properties of LPCVD Polysilicon
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .02
SiH₄+H₂ 대한 플라즈마 장치의 수치 모델링
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
LPCVD로 증착한 텅스텐 박막의 증착 조건 제어에 의한 접착성 및 저항 특성 향상
Applied Science and Convergence Technology
2000 .12
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