PECVD로 증착된 Silicon Nitride 박막의 특성연구

이중환 ,  권오준 ,  전무식 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07

Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD

Jae Eun Kim ,  Kyung Dong Lee ,  Yoonmook Kang 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .02

Process Optimization of PECVD SiO2 Thin Film Using SiH4/O2 Gas Mixture

Tae-min Ha ,  Seungnam Son ,  Jun Yong Lee 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2012 .02

Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature

Jeon G. HAN ,  Jun S. LEE ,  Bibhuti B. SAHU 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

PECVD 증착 변수와 in - situ IR cell 을 이용한 온도별 a - Si : H 의 특성 변화

강진규 ,  박영배 ,  이시우

한국진공학회 학술발표회초록집

1997 .02

Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor

Kyeong-Keun CHOI ,  Kee JONG ,  Jeong-Yoon LEE 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2016 .08

He-SiH4혼합가스를 이용하여 RF-PECVD에 의해 증착된 수소화된 나노결정질 실리콘 박막의 재료적 특성에 관한 연구

김인교 ,  정호범 ,  임종혁 외 2명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

In-situ diagnosis using FT-IR and the characterization of Hf nitride films

강상우 ,  윤주영 ,  성대진 외 3명

한국진공학회 학술발표회초록집

2006 .08

고굴절률 PECVD SiNx 박막의 성장 및 그 표면특성 분석

추성중 ,  정재욱 ,  정의석 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2011 .02

PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.

김선우 ,  김형준

한국진공학회 학술발표회초록집

1992 .07

p - Xylene precursor를 사용한 low k 유기박막의 PECVD 증착 및 전기적특성

권영춘 ,  주종량 ,  정동근

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .02

PECVD 증착조건 변화에 따른 a-C:H 박막의 구조 변화

조영옥 ,  노옥환 ,  윤원주 외 5명

한국진공학회 학술발표회초록집

2000 .02

Toluene precursor를 사용하여 PECVD에 의해 증착된 law - k 유기박막의 증착온도의 특성

권영춘 ,  주종량 ,  정동근

한국진공학회 학술발표회초록집

1999 .07

태양전지 적용을 위한 PECVD 실리콘 질화막 증착 및 가스비 가변에 따른 효과

공대영 ,  박승만 ,  이준신

한국진공학회 학술발표회초록집

2010 .02

저압에서의 사일렌과 디사일렌의 열분해 반응에 관한 연구

한재현 ,  문상흡

Applied Science and Convergence Technology

1995 .12

Characteristics of Oxide Films Deposited with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures From SiH₄-N₂O

강진규 ,  박영배 ,  이시우

Applied Science and Convergence Technology

1994 .12

Synthesis of silicon nitride thin film for high permeation barrier performance with RF power variation on hollow cathode RF PECVD

김석현 ,  이준석 ,  B.B.Sahu 외 1명

한국진공학회 학술발표회초록집

2018 .02

마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착

김성훈 ,  송세안 ,  김성근

Applied Science and Convergence Technology

1992 .06

PECVD를 이용한 SiO₂ 증착에서 전극 간격에 따른 증착률과 균일도 특성

이상호 ,  허민 ,  김대웅 외 6명

한국진공학회 학술발표회초록집

2020 .08

SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성

김운중 ,  한창희 ,  나사균 외 2명

Applied Science and Convergence Technology

2004 .09