지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
등록된 정보가 없습니다.
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
PECVD로 증착된 Silicon Nitride 박막의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Passivation Properties of Hydrogenated Silicon Nitrides deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Process Optimization of PECVD SiO2 Thin Film Using SiH4/O2 Gas Mixture
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
PECVD 증착 변수와 in - situ IR cell 을 이용한 온도별 a - Si : H 의 특성 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
1997 .02
Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
He-SiH4혼합가스를 이용하여 RF-PECVD에 의해 증착된 수소화된 나노결정질 실리콘 박막의 재료적 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
In-situ diagnosis using FT-IR and the characterization of Hf nitride films
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .08
고굴절률 PECVD SiNx 박막의 성장 및 그 표면특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2011 .02
PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
p - Xylene precursor를 사용한 low k 유기박막의 PECVD 증착 및 전기적특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
PECVD 증착조건 변화에 따른 a-C:H 박막의 구조 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
Toluene precursor를 사용하여 PECVD에 의해 증착된 law - k 유기박막의 증착온도의 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
태양전지 적용을 위한 PECVD 실리콘 질화막 증착 및 가스비 가변에 따른 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
2010 .02
저압에서의 사일렌과 디사일렌의 열분해 반응에 관한 연구
Applied Science and Convergence Technology
1995 .12
Characteristics of Oxide Films Deposited with Remote Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition at Low Temperatures From SiH₄-N₂O
Applied Science and Convergence Technology
1994 .12
Synthesis of silicon nitride thin film for high permeation barrier performance with RF power variation on hollow cathode RF PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착
Applied Science and Convergence Technology
1992 .06
PECVD를 이용한 SiO₂ 증착에서 전극 간격에 따른 증착률과 균일도 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
SiH₂Cl₂와 NH₃를 이용하여 원자층 증착법으로 형성된 실리콘 질화막의 특성
Applied Science and Convergence Technology
2004 .09
0