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대한기계학회 대한기계학회 논문집 A권 대한기계학회논문집 A권 제30권 제12호
발행연도
2006.12
수록면
1,557 - 1,563 (7page)

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이 논문의 연구 히스토리 (5)

2009

유한요소해석과 광선추적을 연계한 주사전자 현미경 대물렌즈의 설계 및 해석
박근 ,  이재진 ,  박만진 외 2명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2009.11 학술저널

2007

유한요소법을 사용한 주사전자 현미경의 전자렌즈 설계 및 해석에 관한 연구
박근 ,  정현우 ,  박만진 외 2명 Journal of the Korean Society for Precision Engineering 2007.09 학술저널
열전자방사형 주사전자 현미경 전자광학계의 유한요소해석
박근 ,  정현우 ,  김동환 외 1명 대한기계학회 춘추학술대회 2007.05 학술대회자료

2006

전계방출 주사전자 현미경의 전자광학계 유한요소해석
박근 ,  박만진 ,  김동환 외 1명 대한기계학회 논문집 A권 2006.12 학술저널
전계방출 주사전자 현미경의 전자광학계 수치해석
박근 ,  박만진 ,  김동환 외 1명 대한기계학회 춘추학술대회 2006.06 학술대회자료

초록· 키워드

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A scanning electron microscope (SEM) is well known as a measurement and analysis equipment in nano technology, being widely used as a crucial one in measuring objects or analyzing chemical components. It is equipped with an electron optical system that consists of an electron beam source, electromagnetic lenses, and a detector. The present work concerns numerical analysis for the electron optical system so as to facilitate design of each component. Through the numerical analysis, we investigate trajectories of electron beams emitted from a nano-scale field emission tip, and compare the result with that of experimental observations. Effects of various components such as electromagnetic lenses and an aperture are also discussed.
#Scanning Electron Microscope(주사전자현미경) #Field Emission(전계방출) #Electromagnetic Lens(전자렌즈) #Finite Element Analysis(유한요소해석)

목차

Abstract
1. 서론
2. 주사전자현미경의 전자광학계
3. 전자광학계 해석을 위한 이론적 배경
4. 전자광학계의 유한요소 해석
5. 결론
후기
참고문헌

참고문헌 (10)

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Lee, R. E., 1993, Scanning Electron Microscopy and X-Ray Microanalysis, Prentice Hall. google schola Reimer, L., 1998, Scanning Electron Microscopy – Physics of Image Formation and Microanalysis, Springer, Berlin. google schola Balasubramanyam, M., Munro, E. and Taylor, J., 1993, “Simulation and Interpretation of Scanning Electron Microscope Images,” Proc. SPIE, Vol. 2014, pp. 104~111. google schola Chisholm, T., Wallman, B. A., Liu, H., Munro, E., Rouse, J. and Zhu, X., 1996, “Improved Resolution in Field-Emission Lithography Machines,” Proc. SPIE, Vol. 2858, pp. 146~155. google schola Mook, H.W. and Kruit, P., 1999, “Optics and Design of the Fringe Field Monochromator for a Schottky Field Emission Gun,” Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Vol. 427, pp. 109-120. google schola

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