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Korean Society for Precision Engineering 한국정밀공학회 학술발표대회 논문집 한국정밀공학회 2005년도 추계학술대회 논문요약집
발행연도
2005.10
수록면
940 - 943 (4page)

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It is not efficient and scarcely out of the question to use commercial expensive electron beam lithography system widely used for semiconductor fabrication process for the manufacturing application field of various devices in the small business scope. Then scanning electron microscope based electron beam machining system is maybe regarded as a powerful model can be used for it simply. To get a complete suite of thus proper system, proper chamber with high vacuum condition is necessarily required more than anything else to modify scanning electron microscope. In this study, special chamber unit using rotary pump and diffusion pump to obtain high vacuum degree was designed and manufactured. And various evaluation tests for recognize the vacuum characteristic were accomplished.
#Electron beam(전자빔) #Vacuum(진공) #Chamber(챔버) #Rotary pump(로터리 펌프) #Diffusion pump(확산펌프) #Evaluation(평가)

목차

ABSTRACT
1. 서론
2. 주사식전자현미경을 기본으로 한 전자빔 가공시스템의 구축
3. 챔버(Chamber)의 역할
4. 챔버의 설계와 제작
5. 진공환경의 성능평가
6. 결론
참고문헌

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