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이용수
1. 서론
2. 실험 방법
3. 결과 및 요약
참고문헌
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Etching Mechanism of Indium Tin Oxide Thin Films using Cl2/HBr Inductively Coupled Plasma
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2009 .01
$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용
한국재료학회 학술발표대회
1996 .01
ICP를 이용한 Ar/HBr/Cl₂ 가스에서 백금 박막의 식각 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1998 .07
SiC/ $Si_{3}N_{4}$ 복합재료의 $O_{2}/Cl_{2}$분위기에서의 고온 부식거동
한국재료학회 학술발표대회
1992 .01
Cl2 / Ar 유도 결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N2 가스 첨가 효과 ( The Effect of Additive N2 Gas In Pt Film Etching Using Inductively Coupled Cl2 / Ar Plasmas )
전자공학회논문지-SD
2000 .07
한국공업규격-폴리염화알루미늄
수도
1975 .01
HBr/O2 유도결합 플라즈마를 이용한 폴리실리콘 건식식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2002 .01
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
Cl₂ 유도결합 플라즈마를 이용한 SBT 박막의 식각특성
전기학회논문지 C
2001 .05
ZnO 박막의 청색 $Cl_2/Ar$플라즈마 식각
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
Cl/HBr/O 고밀도 플라즈마에서 비정질 실리콘 게이트 식각공정 특성
화학공학
2009 .01
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
CLS 시스템의 제어 알고리듬 테스트를 위한 플랫폼 개발
제어로봇시스템학회 국내학술대회 논문집
2007 .05
유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성
전기전자재료학회논문지
2011 .01
ATM 망에서 비연결형 서버의 폭주제어에 관한 연구
한국정보과학회 학술발표논문집
1997 .10
CLS 기반 공간 적응적 영상복원 ( Spatially Adaptive CLS Based Image Restoration )
한국통신학회논문지
1996 .10
CF4/Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마에 의한 gold 박막의 식각특성
전기전자재료학회논문지
2003 .01
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