유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구

김현수 ,  이재원 ,  김태일 외 1명

한국표면공학회지

1999 .04

Magnetized inductively coupled plasma etching of GaN in Cl₂/BCl₃plasmas

Y.H. Lee ,  Y.J. Sung ,  G.Y. Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .10

$Cl_2/O_2$ 유도결합형 플라즈마 특성 및 실리콘 식각에의 응용

김현수 ,  이주훈 ,  오경희 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

김문영 ,  김태현 ,  장상훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .11

He/BCl₃/Cl₂유도결합 플라즈마를 이용한 TiN 박막의 식각 특성

우종창 ,  김창일 ,  주영희 외 1명

전기전자재료학회논문지

2011 .01

Etching characteristics of BST thin films using BCl₃/Cl₂/Ar plasma

Gwan-Ha Kim ,  Dong-Pyo Kim ,  Chang-Il Kim 외 2명

대한전기학회 학술대회 논문집

2003 .10

유도결합형 $Cl_2/BCl_3/Ar$ 플라즈마를 이용한 sapphire wafer의 건식 식각

성연준 ,  이용혁 ,  김현수 외 4명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

ICP를 이용한 Ar/Cl₂/BCl₃ 플라즈마에서 PZT 식각 특성

안태현 ,  김경태 ,  이영희 외 3명

대한전기학회 학술대회 논문집

1999 .11

BCl₃/Ar 플라즈마에 Cl₂ 가스 첨가에 따른 TiN 박막의 식각 특성

엄두승 ,  우종창 ,  김동표 외 1명

전기전자재료학회논문지

2008 .01

$Cl_2$-ICP를 이용한 Doped GaN 식각의 공정변수적 연구

임연호 ,  조범철 ,  박진수 외 2명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

기판 온도에 따른 Cl₂/BCl₃/Ar 플라즈마에서 ZrO₂ 박막의 건식 식각

양설 ,  하태경 ,  위재형 외 2명

한국표면공학회지

2009 .12

유도결합형 플라즈마를 이용한 Ta 식각 특성

이영식 ,  나선웅 ,  이내응 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2003 .05

유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 및 InP의 건식 식각에 관한 연구

정석용 ,  박철희 ,  김성대 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

1999 .01

평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성

金文永 ,  白榮植 ,  太興植 외 3명

전기학회논문지 C

1999 .09

GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성

한윤봉 ,  최창선 ,  임연호 외 3명

한국재료학회 학술발표대회

2000 .01

BCl₃/Ar 유도 결합 플라즈마 시스템에서 이온 에너지 분포에 따른 HfO₂ 박막의 식각

金瓘河 ,  金徑兌 ,  金宗奎 외 3명

전기학회논문지

2007 .02

Dry Etching of ITO Thin Films by the Addition of Gases in Cl2/BCl3 Inductivity Coupled Plasma

주영희 ,  김창일 ,  우종창 외 3명

Transactions on Electrical and Electronic Materials

2012 .01

Cl₂ 유도결합 플라즈마를 이용한 SBT 박막의 식각특성

金東杓 ,  金昌日

전기학회논문지 C

2001 .05

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01