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평판형 유도 결합 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .11
BCl 기반의 혼합가스들을 이용한 InP 고밀도 유도결합 플라즈마 식각
한국재료학회지
2003 .01
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
1999 .09
자화 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각 특성
전기학회논문지 C
2000 .04
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
평판 유도 결합형 CH₄/H₂/Ar 플라즈마를 이용한 GaN 건식 식각에서 공정 변수가 저항성 접촉 형성에 미치는 영향
전기학회논문지 C
2000 .08
Direct Wafer Bonding법에 의한 InP 기판과 $\textrm{Si}_3\textrm{N}_4$/InP의 접합특성
한국재료학회지
1998 .01
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
( 100 ) 면 InP 결정 습식 식각 특성 ( Wet Etching Properties of ( 100 ) Surface InP Crystal )
대한전자공학회 학술대회
1991 .11
${Cl}_{2}/{BCl}_{3}$ 유도 결함형 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
GaN 박막의 ICP 식각후의 광특성
한국재료학회 학술발표대회
2000 .01
P+ -In0.53Ga0.47As/InP의 저항성 접촉 특성
대한전자공학회 학술대회
1995 .06
CH4 / H2를 사용한 InP계 광전소자의 건식 식각 공정에 관한 연구 ( Research on the dry etching condition for InP optoelectronic device using CH4 / H2 )
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
InP의 습식식각특성과 InP/InGaAs HBT의 제작
대한전자공학회 학술대회
2002 .06
Dry Etching characteristics of GaN Using Reactive Ion Beam
OPTOELECTRONICS & COMMUNICATIONS CONFERENCE
1997 .01
CH4/H2를 사용한 InP계 광전소자의 건식 식각 공정에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1993 .11
Inductively coupled plasma reactive ion etching of ZnO using C2F6 gas
한국재료학회 학술발표대회
2005 .01
InP / InP , InCaAs / InP의 OMVPE 성장 및 도우핑 특성 ( OMVPE Growths of InP / InP , InGaAs / InP and Doping Characteristics )
한국통신학회 학술대회논문집
1988 .01
InP / InP , InCaAs / InP 의 OMVPE 성장 및 도우핑 특성 ( OMVPE Growths of InP / InP , InGaAs / InP and Doping Characteristics )
특정연구 결과 발표회 논문집
1988 .01
GaN계 질화합물 반도체의 습식식각 연구
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
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