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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제41권 제5호
발행연도
2008.10
수록면
205 - 213 (9page)

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A 3D particle code is developed to analyze electron behavior in a planar magnetron sputtering cathode either in balanced or unbalanced configuration. Three types of collisions are included; electron - neutral elastic, excitation to a metastable state and ionization. Flight path is calculated by a 4-th order Runge-Kutta method with a time step of 10 ps. Effects of electron starting position, magnetic field intensity and configuration were analyzed. For a more efficient and accurate modeling, multithreading technique is considered for multicore CPU computers. Under an assumption of cold ion approach, target erosion profiles are predicted for a flat target surface.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험 방법 및 수치 모델의 구성
3. 모델링 결과 및 고찰
4. 결론
후기
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