Selective Dry Etching of Alternating PSM Structure for Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) Mask in Inductively Coupled Plasmas (ICP)

H. Y. Jung ,  Y. R. Pa ,  k 외 4명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2008 .06

Infinitely high etch selectivity during CH₄/H₂/Ar inductively coupled plasma (ICP) etching of indium tin oxide (ITO) with photoresist mask

D. Y. Kim ,  J. H. Ko ,  M. S. Pa 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2006 .10

유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성

박준용 ,  김정식 ,  김현수 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

1999 .05

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01

Optimized Process Analysis of SiO₂ etch using CFD Simulation

Han-Bit Kim ,  Tae-Ho shin ,  Byeong-Gwan ji 외 7명

대한전자공학회 학술대회

2017 .01

The Effect of Substrate Heating Technique for Selective Etching in Pulse-biased Inductively Coupled Plasma

Kyung Chae Yang ,  Min Hwan Jeon ,  Geun Young Yeom

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발

박세근 ,  이종근 ,  조수범 외 3명

전기전자재료학회논문지

2002 .01

Modeling and Simulation of Line Edge Roughness for EUV Resists

Sang-Kon Kim

JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE

2014 .02

대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향

오창권 ,  김경남 ,  염근영

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .05

Focused Ion Beam을 이용한 EUVL Mask Defect Isolation 및 Repair

김석구 ,  백운규 ,  박재근

반도체및디스플레이장비학회지

2004 .01

Progress in the Development of Extreme Ultraviolet Lithography Exposure Systems

A. Ray Chaudhu ,  i

International Conference on Electronics, Informations and Communications

1998 .01

Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma

C. S. Yoon ,  T. S. Kim ,  J. G. Lee 외 8명

대한전자공학회 학술대회

1996 .01

범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각

오범환 ,  박세근 ,  조수범

전기전자재료학회논문지

2004 .01

Inductively coupled plasma를 이용한 ITO표면의 O₂ plasma 처리 후 유기 발광 소자의 특성

김미숙 ,  정창현 ,  임종태 외 2명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2005 .11

아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구

김경현 ,  김관용 ,  이효창 외 1명

KEPCO Journal on electric power and energy

2015 .01

Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source

Jin. Seock. Seo ,  Kyung ,  Jun 외 6명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2013 .11

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2018 .10

Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구

조성환 ,  이호준

대한전기학회 학술대회 논문집

2019 .07

ICP ETCHING OF TUNGSTEN FOR X-RAY MASKS

C. Jeong ,  K. Song ,  C. Pa 외 4명

한국표면공학회지

1996 .12