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In this study, the sputtered BTO film was polished by CMP process with the self-developed BaTiO₃- and TiO₂-mixed abrasives slurries (MAS), respectively. The removal rate of BTO (BaTiO₃) thin film using the BaTiO₃-mixed abrasive slurry (BTO-MAS) was higher than that using the TiO₂-mixed abrasives slurry (TiO₂-MAS) in the same concentrations. The maximum removal rate of BTO thin film was 848 ㎚/min with an addition of BaTiO₃ abrasive at the concentration of 3 wt%. The sufficient within-wafer non-uniformity (WIWNU%) below 5% was obtained in each abrsive at all concentrations. The surface morphology of polished BTO thin film was investigated by atomic force microscopy (AFM).
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 고찰
4. 결론
감사의 글
참고문헌
저자소개
참고문헌 (12)
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[학술지(정기간행물)] - S. S. Kim / 1995. / Structural characterization of epitaxial BaTiO3 thin films grown by sputter deposition on MgO(100) 78 (9) : 5604 ~ 5608
[학술지(정기간행물)] - Y. J. Seo / 2004. / Chemical mechanical polishing of Ba0.6Sr0.4TiO3 film prepared by solgel method 75 : 149 ~
[학술지(정기간행물)] - P. Vitanov, / December,2002 / Deposition, structure evolution and dielecrtrc properties of BaTiO3 and BaxSr1-xTiO3 thin films prepared by the sol-gel method 69 : 371 ~ 377
[학술지(정기간행물)] - 이병우 / 2003. / 수열합성법에 의한 BaTiO3 분말합성 및 소결체의 제조 40 (6) : 577 ~ 582
[학술지(정기간행물)] - G. B. Basim / 2000. / Effect of particle size of chemical mechanical polishing with minimal defects 147 : 3523 ~
[학술지(정기간행물)] - Y. J. Seo / 2004. / Chemical mechanical polishing of Ba0.6Sr0.4TiO3 film prepared by solgel method 75 : 149 ~
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