지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 알고리즘
Ⅲ. 식각모델
Ⅳ. 이체충돌(Binary Collision)
Ⅴ. 쌍극성표동
Ⅴ. 식각률
Ⅵ. 결과 및 고찰
References
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
초미세 공정에 적합한 ICP(Inductive Coupled Plasma) 식각 알고리즘 개발 및 3차원 식각 모의실험기 개발
대한전자공학회 학술대회
1999 .06
ICP 에 의한 Pt 박막의 식각 메카니즘에 관한 연구 ( The Study on the etching mechanism of Pt thin film by inductive Coupled plasma )
전자공학회논문지-D
1997 .06
SiO2 식각 특성 개선을 위한 E-ICP와 ICP 식각 비교
대한전자공학회 학술대회
1999 .11
E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
C₄F₈/O₂ 공정기체와 E-ICP를 이용한 산화막 식각
대한전자공학회 학술대회
2001 .06
Halogen-based Inductive Coupled Plasma에서의 W 식각시 첨가 가스의 효과에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
U Type Ferrite Core를 이용한 Inductive Coupled Plasma Source에 관한 연구
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2009 .05
Enhanced-Inductively Coupled Plasma (E-ICP)를 이용한 Silylated photoresist 식각공정개발
전기전자재료학회논문지
2002 .01
대면적 내장 선형 ICP(inductively coupled plasma) system에서 자장이 플라즈마와 PR(Photoresist) 식각 특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2005 .05
Plasma Characteristics of (DF-ICP) Dual Frequency Inductively Coupled Pulsed Plasma Source
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2013 .11
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
E-ICP와 ICP를 이용한 MIS(Mo/HfO₂/Si) Capacitor의 Plasma Etching Damage 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
ICP 플라즈마를 이용한 W$N_{x}$의 이방성 식각
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
ICP 광원의 정격용량 설계 요소와 전기적 의존성
전기학회논문지
2008 .03
아르곤/이산화탄소 혼합가스의 유도 결합 플라즈마를 이용한 이산화탄소 분해 연구
KEPCO Journal on electric power and energy
2015 .01
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
안테나에서 페라이트 위치 변화에 따른 전자계 시뮬레이션과 전기적ㆍ광학적 특성
전기학회논문지
2008 .05
EFFECT OF NEUTRAL GAS FLOW ON THE PLASMA STATE IN ICP PROCESS,
한국재료학회 학술발표대회
1998 .01
내장형 선형 ICP(Inductively Coupled Plasma) System에서 자장이 플라즈마와 PR 식각특성에 미치는 영향
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2003 .05
BCl 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각
한국재료학회지
2003 .01
0