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Sequencing CURLY LEAF-associated RNAs in Arabidopsis revealed prevalent intergenic RNAs from the nuclear mitochondrial sequence
Molecules and Cells
2024 .01
Plasma etching of gallium nitride at high temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
C₃F6O 가스를 이용한 SiO₂에 대한 식각 특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
Applications of fluid based plasma simulation : dry etch
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Characteristics of SiO₂ Etching by Capacitively Coupled Plasma with Different Fluorocarbon Liquids (C7F14, C7F8) and Fluorocarbon Gas (C₄F8)
Applied Science and Convergence Technology
2021 .07
Silicon oxide etching studies in inductively coupled fluorocarbon plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Etching properties of titanium nitride thin films in a O₂/Cl₂/Ar plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Characteristics of SiO₂ Etching in a C4F8/Ar/O₂ pulse modulation capacitively coupled plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Cyclic Dry Etching of SiO₂ using NF₃/H₂ remote plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2021 .02
MoS2 layer etching using CF4 plasma and H2S plasma treatment
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Cryogenic Etching in Advanced Electronics Manufacturing: Applications and Challenges
Applied Science and Convergence Technology
2024 .09
다양한 etch gas를 이용한 자성 박막의 식각특성 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .02
Quantitative control of the surface chemistry of magnetron-deposited silicon nitride etched with various wet treatments
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
Ar/CxF2xO(X=3,6) 혼합가스를 이용한 친환경 SiO₂ 식각 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
The optimize of chamber recovering conditions in plasma etching processes
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
원자층 식각기술
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Sensitivity Enhancement of SiO₂ Plasma Etching Endpoint Detection with K-means Cluster Analysis Technique
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .02
Plasma Etching Process based on Real-time Monitoring of Radical Density and Substrate Temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .02
Ar/C₄F6/O₂Pulsedtriplefrequency의 식각 메커니즘 분석
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .02
Sub-10 nm 수직 배향 DSA etch profile 향상에 대한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
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