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The Study of Nanocrystalline Silicon Bottom-gate Thin Film Transistor Fabricated at Low Temperature for Flexible Display
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
Laser Crystallization of a-Si:H films prepared at Ultra Low Temperature( $ < 150^{\circ}C$) by Catalytic CVD
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2005 .01
Purification of Si using Catalytic CVD
한국신·재생에너지학회 학술대회 초록집
2009 .11
CVD-Cu film의 특성에 증착온도가 미치는 영향
한국재료학회 학술발표대회
1994 .01
새로운 CVD 방법에 의하여 제작된 실리콘 박막의 특성 연구 ( Characterization of Silicon Thin Films Prepared by New CVD Technique )
대한전자공학회 학술대회
1989 .07
50nm thick as-deposited poly silicon as an active layer of TFT for driving AM-OLEDs prepared at low temperature $( < 200^{\circ}C)$ using Cat-CVD
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2006 .01
Nano - Foam of Few - Layer Graphene Grown by CVD
한국고분자학회 학술대회 연구논문 초록집
2012 .04
CVD 기술동향
전자공학회지
2001 .08
Silicon Nitride Films Prepared at a Low Temperature (${\leq}200^{\circ}C$) for Gate Dielectric of Flexible Display
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2009 .01
Performance of Thin Film Transistors Having an As-Deposited Polycrystalline Silicon Channel Layer
한국정보디스플레이학회 International Meeting
2007 .01
CVD Pt 박막의 증착과 특성 분석
한국재료학회 학술발표대회
1997 .01
DEPOSITION OF A-SIC : H FILMS ON AN UNHEATED SI SUBSTRATE BY LOW FREQUENCY (50㎐) PLASMA Cvd
한국표면공학회지
1996 .12
Laser CVD에 의한 비정질 실리콘 박막 형성에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .07
FA-CVD에 의한 Si 박막 특성의 수소 희석 효과 ( Effect of Hydrogen Dilution on Characteristics of Thin Silicon Films Prepared by FA-CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .01
A Study of Deposition Mechanism of Laser CVD SiO2 Film
Transactions on Electrical and Electronic Materials
2003 .01
Laser CVD SiN막의 전기적 특성
대한전기학회 학술대회 논문집
1990 .11
극저온(150℃)에서 ICP-CVD로 증착한 Nanocrystalline-Si 박막
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .11
고주파 플라즈마 CVD에 의한 저 압력에서의 다이아몬드 막의 성장
전기학회논문지 C
2001 .02
RP-CVD에 의한 비정질 실리콘 박막의 특성 ( Characterization of a-Si : H films deposited by a remote plasma CVD )
대한전자공학회 학술대회
1989 .11
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