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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
최치규 (제주대학교 물리학과) 강민성 (제주대학교 물리학과) 문종 ([주]APEX 연구소) 현동걸 (제주교육대학교 과학교육과) 김건호 (경상대학교 물리학과) 이정용 (한국과학기술원 전자재료공학과)
저널정보
한국재료학회 한국재료학회지 한국재료학회지 제8권 제2호
발행연도
1998.1
수록면
165 - 172 (8page)

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이 논문의 연구 히스토리 (4)

1998

고상 에피택시에 의한 초박막 $CoSi_2$ 형성과 $Si/epi-CoSi_2/Si$(111)의 이중헤테로 에피택셜 성장
최치규 ,  강민성 ,  문종 외 3명 한국재료학회지 1998.01 학술저널

1995

고상 에피택셜 성장에 의한 PtSi 박막의 형성
최치규 ,  강민성 ,  이개명 외 4명 Applied Science and Convergence Technology 1995.09 학술저널
고상 에피택셜 방법에 의한 에피택셜 PtSi박막 형성
최치규 ,  강민성 ,  이계명 외 3명 한국진공학회 학술발표회초록집 1995.06 학술대회자료

1994

동시증착에 의한 Si(111) - 7×7 기판 위에 TiSi₂ 에피택셜 성장
최치규 ,  류재연 ,  오상식 외 5명 Applied Science and Convergence Technology 1994.12 학술저널

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초고진공에서 in situ 고상 에피택셜 방법으로 Si(111)기판 위에 에피택셜 $CoSi_2$ 초박막과 $Si/epi-CoSi_2/Si$(111) 의 이중 이종에피택셜 구조를 성장 시켰다. 2-MeV $^4He^{++}$ 이온 후방산란 분광기와 X-선 회절분석기 및 고분해능 투과전자 현미경을 이용하여 성장된 $CoSi_2$와 $Si/epi-CoSi_2/Si$(111)의 상, 조성, 결정성 그리고 계면의 미세구조를 조사하였다. 실온에서 증착된 Co 박막은 texture 구조를 갖는 Stransky-Krastanov 성장 모드를 나타내었다. 실온에서 Si(111)-$7\times{7}$ 기판 위에 Co를 $50\AA$ 증착한 후 $700^{\circ}C$로 10분간 in situ 열처리했을 때 초박막 A-type $CoSi_2$상이 성장되었고, 정합상관계는 $CoSi_2$[110]//Si[110] and $CoSi_2$(002)//Si(002)였으며, 편의각은 없었다. A-type $CoSi_2$/Si(111)계면은 평활하고 coherent 하였다. 양질의 epi-Si/epi-$CoSi_2$(A-type)/Si(111)구조는 Co/Si(111)계를 $700^{\circ}C$로 10분간 in situ로 열처리한 후 기판을 $500^{\circ}C$로 유지하면서 Si을 증착하였을 때 형성되었다.

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