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한국조명·전기설비학회 조명·전기설비학회논문지 조명·전기설비학회논문지 제13권 제4호
발행연도
1999.11
수록면
82 - 86 (5page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

1999

고주파 유도결합 플라즈마의 전자에너지 분포함수 계측에 관한 연구
하장호 ,  전용우 ,  최상태 외 2명 조명·전기설비학회논문지 1999.11 학술저널

1997

고주파 유도 결합 플라즈마의 자기장 계측에 관한 연구
하장호 ,  전용우 ,  전재일 외 4명 한국조명·전기설비학회 학술대회논문집 1997.11 학술대회자료

초록· 키워드

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본 연구에서는 푸로브법과 교류중첩법을 이용하여 고주파 유도결합 플라즈마에서 전자에너지 분포함수를 측정하였다. 실험조건은 압력 10~40[mTorr], 입력파워는 100~600[W]이고, 가스유량은 3~12[sccm]이며, 전자에너지 분포함수의 공간분포 측정에 있어서 아스펙트비(R/L)는 2로 하였다. 전자에너지 분포함수는 압력 및 입력파워에 대하여 강한 의존성을 나타내었고, 가스유량이 증가할수록 증가하였다. 전자에너지 분포함수의 반경방향 분포는 플라즈마 중심에서 최대가 되었다. 전자에너지 분포함수의 축방향 분포는 석영창과 기판 사이의 중심에서 최대가 되었다. 이러한 결과는 고주파 유도결합 플라즈마의 생성 메커니즘 이해와 간단한 ICP(Inductively Coupled Plasma) 모델링 응용에 기여할 수 있을 것이다.

목차

요약
Abstract
1. 서론
2. 측정값과 그 평가
3. 실험장치 및 측정방법
4. 실험결과 및 고찰
5. 결론
참고문헌
◇저자소개◇

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