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대한전기학회 대한전기학회 학술대회 논문집 1999년도 대한전기학회 추계학술대회 논문집 C
발행연도
1999.11
수록면
1,111 - 1,113 (3page)

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2000

에칭 프로세스를 위한 SF₆/O₂ 플라즈마 특성에 관한연구
하장호 ,  전용우 ,  신용철 외 4명 대한전기학회 학술대회 논문집 2000.07 학술대회자료

1999

유도 결합형 SF₆플라즈마 특성에 관한 연구
하장호 ,  전용우 ,  송현직 외 3명 대한전기학회 학술대회 논문집 1999.11 학술대회자료
유도 결합형 SF₆플라즈마 특성에 관한 연구
하장호 ,  전용우 ,  최상태 외 5명 한국조명·전기설비학회 학술대회논문집 1999.11 학술대회자료

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목차

Abstract
1. 서론
2. 실험방법 및 장치
3. 실험결과 및 고찰
결론
[참고문헌]

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Effects of Bias Frequency on RIE Rag in Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System
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도현호 ,  김정훈 ,  이석현 외 1명 한국진공학회 학술발표회초록집 1995 .06

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