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이용수
Abstract
1. 서론
2. 본론
결론
참고문헌
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E-ICP에 의한 산화막 식각특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
Enhanced Inductively Coupled Plasma의 자화 주파수 의존 특성
대한전자공학회 학술대회
2000 .06
유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )
전자공학회논문지-SD
2001 .09
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )
대한전자공학회 학술대회
1994 .07
Inductively Coupled Plasma Etcher를 이용한 Pt 박막의 식각 ( Inductively Coupled Plasma Etching of Pt Thin Films )
대한전자공학회 학술대회
1996 .07
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )
대한전자공학회 학술대회
1997 .11
범용성 유도결합 플라즈마 식각장비를 이용한 깊은 실리콘 식각
전기전자재료학회논문지
2004 .01
자화된 평판형 유도 결합 플라즈마의 특성 및 건식 식각에의 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
1997 .07
플라즈마 식각방법에 의한 단결정 실리콘의 Two-Step 식각특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-Si by the Plasma Etching Technique )
전자공학회논문지
1987 .01
플라즈마 식각 방법에 의한 단결성 실리콘의 Two-Step 식각 특성 ( Two-Step Etching Characteristics of Single-si by the Plasma Etching Technique )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Downstream 誘導形 반응기의 제작 및 CF4/O2 플라즈마를 이용한 a-Si:H의 식각
대한전자공학회 학술대회
1992 .06
ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향
전기학회논문지
1993 .04
자화된 플라즈마의 특성 및 식각에의 응용
대한전기학회 학술대회 논문집
1993 .11
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2018 .10
Aspect ratio에 따른 Inductively coupled Plasma 특성 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2019 .07
유도결합형 플라즈마를 이용한 ITO 식각 특성
한국표면공학회 학술발표회 초록집
1999 .05
유도 결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
한국표면공학회지
1999 .04
Platinum Etching in an Inductively Coupled Cl2 Plasma
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
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