지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
이용수
Abstract
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 계산방법
Ⅲ. 계산결과
Ⅳ. 결론
참고문헌
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
긴 채널 NMOSFET에 대한 통합 전류-전압 ( A Unified Current-Voltage Model for Long Channel NMOSFET's )
대한전자공학회 학술대회
1990 .01
Characteristics of 0.1μm nMOSFETs with Different Channel Doping and Gate Oxide Thickness
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
인듐을 채널 도펀트로 사용한 0.1μm nMOSFET에 관한 연구 ( A Study on 0.1μm nMOSFETs with Indium Implanted Channel )
대한전자공학회 학술대회
1995 .11
인듐을 채널 도펀트로 사용한 0.1㎛ nMOSFET에 관한 연구
대한전자공학회 학술대회
1995 .12
Hydrodynamic 방정식을 이용한 짧은 채널 Nmosfet의 풀이 방법 ( A Numerical Simulation on the Short Channel nMOSFET using Hydrodynamic Equations )
대한전자공학회 학술대회
1991 .01
NMOSFET의 반전층 양자 효과에 관한 연구
전기학회논문지 C
2002 .09
NMOSFET에서 핫-캐리어 내성의 소자 개발
대한전자공학회 학술대회
2002 .06
RTO 성장과 0.15mm NMOSFET에의 적용 ( Application of Ultra-Thin Rapid Thermal Oxide to 0.15mm NMOSFET )
대한전자공학회 워크샵
1996 .01
온도 증가에 따른 nMOSFET의 Hot carrier effect 변화
대한전자공학회 학술대회
1998 .06
온도 증가에 따른 nMOSFET의 Hot carrier effect 변화 ( Hot carrier effect of nMOSFET's at elevated temperatures )
대한전자공학회 학술대회
1998 .07
Metal Plasma-Etching Damages of NMOSFETs with Pure and N₂O Gate Oxides
한국정보통신학회논문지
1999 .06
비대칭 소오스/드레인을 갖는 NMOSFET의 전기적 특성
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
비대칭 소오스 / 드레인을 갖는 NMOSFET의 전기적 특성 ( Electrical Characteristics of NMOSFET's with Asymmetric Source / Drain Region )
대한전자공학회 학술대회
1998 .11
Performance Enhancement of 0.1nm nMOSFETs by Adjusting Channel Doping and Gate Oxide Thickness
대한전자공학회 학술대회
1996 .01
재결정화된 다결정 nMOSFET의 제작 및 그 전기적 특성 ( Fabrication of the Recrystallized Poly Silicon nMOSFET and Its Electrical Characteristics )
전자공학회논문지-A
1992 .11
0.1㎛ 레벨 NMOSFET의 Hot Carrier현상과 소자 열화 ( Hot Carrier Induced Device Degradation of 0.1㎛ NMOSFET )
한국통신학회 전문대학 논문지
1997 .01
Hot Electron에 의한 NMOSFET의 드레인 출력저항 특성 ( The Characteristics of NMOSFET Drain Output Resistance Due to Hot Electron )
대한전자공학회 학술대회
1992 .11
Hot carrier 효과에 의한 단채널 금속 게이트/High-k 절연막 nMOSFET의 고주파 특성 열화
대한전자공학회 학술대회
2009 .07
0.15μm Gate Length nMOSFETs with Indium Implanted Channel
KITE JOURNAL OF ELECTRONICS ENGINEERING
1996 .01
Reliability Characteristics of La-doped High-k/Metal Gate nMOSFETs
JOURNAL OF SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY AND SCIENCE
2009 .09
0