지원사업
학술연구/단체지원/교육 등 연구자 활동을 지속하도록 DBpia가 지원하고 있어요.
커뮤니티
연구자들이 자신의 연구와 전문성을 널리 알리고, 새로운 협력의 기회를 만들 수 있는 네트워킹 공간이에요.
논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 2006.5
- 수록면
- 241 - 245 (5page)
이용수
이 논문의 연구 히스토리 (6)
2006
선형 유도결합 플라즈마 시스템에서 자장에 의한 플라즈마의 Confinement 효과에 관한 연구
임종혁
,
김경남
,
염근영
한국표면공학회지
2006.06
학술저널
평판형 디스플레이 적용을 위한 내장형 Multiple U-Type 안테나를 이용한 유도결합형 플라즈마에 관한 연구
임종혁
,
김경남
,
염근영
Applied Science and Convergence Technology
2006.05
학술저널
대면적 플라즈마 공정을 위한 내장형 선형 안테나을 이용한 유도결합형 플라즈마에 관한 연구
임종혁
,
김경남
,
염근영
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006.04
학술대회자료
평판형 디스플레이 적용을 위한 내장형 Multiple U-Type 안테나를 이용한 유도결합형 플라즈마에 관한 연구
임종혁
,
김경남
,
염근영
한국진공학회 학술발표회초록집
2006.02
학술대회자료
- 이 논문의 후속연구가 궁금하신가요?
- 연관 학술논문 또는 학술발표를 통해 보다 발전된 연구결과를 확인하실 수 있습니다.
- 이 논문의 연구 히스토리 확인하기
초록· 키워드
오류제보하기
본 연구에서는 대면적 플라즈마 공정에 적용 가능한 고밀도 플라즈마를 발생시키기 위하여 기존의 내장형 serpentine-type 안테나와 새롭게 고안된 내장형 유도결합형 multiple U-Type안테나를 1020㎜ X 920㎜(기판 880 X 660㎜)의 챔버에서 연구하였다. 내장형 유도결합형 multiple U-type을 적용한 플라즈마는 serpentine-type과 비교하여 더 높은 플라즈마 밀도, 높은 radical 밀도, 좋은 균일도를 관찰할 수 있었다. 이는 serpentine-type의 경우와 비교하여 보다 적은 정상파 효과와 높은 유도결합에 기인한다. 내장형 유도결합형 multiple U-type 안테나의 적용으로 2×10¹¹/㎤의 높은 플라즈마 밀도를 얻을 수 있었고 5000W의 입력전압과 Ar 가스 15mTorr 공정압력조건에서 4%의 균일도를 관찰할 수 있었다.
목차
국문초록
Ⅰ. 서론
Ⅱ. 실험장치 및 방법
Ⅲ. 실험결과 및 토의
Ⅳ. 결론
감사의 글
참고문헌
Abstract
참고문헌 (0)
참고문헌 신청함께 읽어보면 좋을 논문
논문 유사도에 따라 DBpia 가 추천하는 논문입니다. 함께 보면 좋을 연관 논문을 확인해보세요!
-
공진 안테나를 사용한 유도 결합 플라즈마에서 고효율 플라즈마 발생 및 플라즈마 동역학 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
평판형 디스플레이 적용을 위한 내장형 Multiple U-Type 안테나를 이용한 유도결합형 플라즈마에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .02
-
Experimental investigation on plasma density distribution at a wafer-level in an inductively coupled plasma using multiple passive resonant antennas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
Inductively Coupled Plasma 장치에서 Hybrid Plasma Model을 활용한 C₂F8/ O₂ 가스의 특성 해석
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
-
Experimental investigation on the plasma generation efficiency and plasma parameters in inductively coupled plasmas with a serial and a parallel antenna
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Oxide 및 Nitride 고선택비 식각 공정에서의 CF4(CHF3)/O2/Ar inductively coupled pulsed plasmas
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
CFD-Plasma & K-Plasma를 이용한 plasma simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
-
Effect of rf bias power on plasma density and electron heating in inductively coupled plasma (ICP)
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
Plasma Display Panel
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
-
Uniformity Control by Using Helium Gas in the Large Area Ferrite Side Type Inductively Coupled Plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2012 .02
-
Characteristics of Inductively Coupled Plasma Source Using Internal Linear Antenna Operated by Superimposed Dual Frequency
한국진공학회 학술발표회초록집
2017 .08
-
낮은 GWP를 가진 CxF2xO 을 이용한 SiO2 식각 공정 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .02
-
Effect of hybrid plasma source on O radical generation in oxygen plasma
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
-
Challenges and Solution on Large Scale of Atmospheric Pressure Plasma for Environmental Plasma Applications
한국진공학회 학술발표회초록집
2020 .08
-
평면형 유도결합 플라즈마 장치에서의 RF 전력 전달 특성 계산
Applied Science and Convergence Technology
1999 .08
-
Dry etching of Al₂O3 thin films in inductively coupled plasma system
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
-
Measurement of characteristics of plasma discharge in liquid
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
-
Inductively Coupled Plasma의 Numerical Simulation
한국진공학회 학술발표회초록집
1998 .07
-
Plasma Uniformity Analysis of Inductively Coupled Plasma Assisted Magnetron Sputtering by a 2D Voltage Probe Array
Applied Science and Convergence Technology
2014 .07
-
Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-assisted Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters
한국진공학회 학술발표회초록집
2015 .08
이 논문의 저자 정보
최근 본 자료
댓글(0)
0
UCI(KEPA) : I410-ECN-0101-2019-420-001269471