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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
저널정보
한국표면공학회 한국표면공학회지 한국표면공학회지 제39권 제3호
발행연도
2006.6
수록면
142 - 146 (5page)

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A novel internal-type linear inductive antenna, which we refer to as a double comb-type antenna, was developed for a large-area plasma source with substrate size of 880 ㎜ × 660 ㎜ (4<SUP>th</SUP> generation glass size). In this study, effect of plasma confinement by applying multi-polar magnetic field was investigated. High density plasmas of the order of 3.18 × 10<SUP>11</SUP> ㎝<SUP>?3</SUP> could be obtained with a pressure of 15 mTorr Ar at an inductive power of 5000 W with good plasma stability. This plasma density is higher than that obtained for the conventional double comb-type antenna, possibly due to the plasma confinement, low rf voltage, resulting in high power transfer efficiency. Also, due to the remarkable reduction in the antenna rf voltage and length, a plasma uniformity of less than 3% could be obtained within a substrate area of 880 ㎜ × 660 ㎜ as rf power increased.

목차

Abstract
1. 서론
2. 실험장치 및 방법
3. 실험결과 및 고찰
4. 결론 및 후기
감사의 글
참고문헌

참고문헌 (10)

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