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논문 기본 정보

자료유형
학술저널
저자정보
Mohammed Khaouani (Aboubekr Belkaid University)
저널정보
한국전기전자재료학회 Transactions on Electrical and Electronic Materials Transactions on Electrical and Electronic Materials 제19권 제5호
발행연도
2018.10
수록면
337 - 343 (7page)
DOI
https://doi.org/10.1007/s42341-018-0046-4

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We present a high-mobility 14-nm channel length In 0.53 Ga 0.47 As vertical rectangular gate-all-around (GAA) MOSFET thatwe simulated with Silvaco TCAD in DevEdit 3D and Atlas for using these devices with low power. We obtained a thresholdvoltage V th of 25 mV; therefore, a subthreshold slope (SS) and drain-induced barrier lowering (DIBL) as low as 78and 45 mV/V have been demonstrated, indicating excellent interface quality and stability. A transconductance (g m ) equalto 1.5 ms/μm, high frequency of 900 GHz for a great InGaAs GAA, record high I ON /I OFF of over 2.5 × 10 6 , and minimumI OFF = 0.21 pA/μm have been obtained. These devices can be used for low-power logic and high-frequency applications.

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