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이용수
1. 서론
2. 실험방법
3. 결과및 고찰
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원거리 플라즈마 화학증착법에 의한 저온 이산화규소 박막의 증착에서 기상반응의 영향
한국진공학회 학술발표회초록집
1994 .02
Photoluminescence chracteristics of SiNx thin film deposited by PECVD at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .02
PECVD로 증착된 Silicon Nitride 박막의 특성연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
Electrical properties of HfOxNy thin films deposited by PECVD
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .02
Effect of plasma properties on characteristics of silicon nitride film deposited by PECVD process at low temperature
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
PECVD로 증착한 Ta₂O5 박막의 전기적 특성 Electrical Characterization of Ta₂O5 Thin Films Deposited by PECVD.
한국진공학회 학술발표회초록집
1992 .07
상압 플라즈마를 이용한 저온 증착 공정
한국진공학회 학술발표회초록집
2019 .08
PECVD 증착조건 변화에 따른 a-C:H 박막의 구조 변화
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .02
원거리 플라즈마 화학증착법(RPECVD)에 의해 증착한 Carbon Nitride 박막의 구조적 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
1996 .02
PECVD 방법을 이용한 DLC 박막의 증착
한국진공학회 학술발표회초록집
2000 .07
상압 플라즈마를 이용한 고품질 고속증착 실리콘 박막의 증착
한국진공학회 학술발표회초록집
2018 .08
PECVD 로 증착한 비정질 실리콘 박막의 고온결정화
한국진공학회 학술발표회초록집
2006 .02
마이크로파 플라즈마 화학기상증착법(PECVD)과 저압 화학기상증착법(LPCVD)을 이용한 실리콘 기판 위에서의 텅스텐 박막증착
Applied Science and Convergence Technology
1992 .06
Remote방식의 대기압 플라즈마 장치를 이용한 SiO₂ 박막 증착 및 특성 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2008 .08
Toluene precursor를 사용하여 PECVD에 의해 증착된 law - k 유기박막의 증착온도의 특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .07
ECR - PECVD로 증착된 a - C : H 박막의 열처리 효과
한국진공학회 학술발표회초록집
2001 .02
p - Xylene precursor를 사용한 low k 유기박막의 PECVD 증착 및 전기적특성
한국진공학회 학술발표회초록집
1999 .02
ORGANIC POLYMER THIN FILMS DEPOSITED ON SILICON AND COPPER BY PECVD METHOD AND CHARACTERIZATION OF THEIR ELECTROCHEMICAL AND OPTICAL PROPERTIES
한국진공학회 학술발표회초록집
2003 .08
Low-temperature PECVD silicon nitride film for the fabrication of capacitance type pressure sensor
한국진공학회 학술발표회초록집
2016 .08
PECVD 공정에 의해 증착된 비정질 실리콘 박막의 특성에 관한 연구
한국진공학회 학술발표회초록집
2013 .08
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