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논문 기본 정보
- 자료유형
- 학술저널
- 저자정보
- 발행연도
- 1995.8
- 수록면
- 521 - 527 (7page)
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The average particle deposition velocity toward a vertical wafer surface in a vertical airflow chamber was measured by a wafer surface scanner(PMS Model SAS-3600). Polystyrene latex(PSL) spheres with diameters between 0.3 and 0.8㎛ were used. To examine the effect of the airflow velocity on the deposition velocity, experiments were conducted for three vertical airflow velocities ; 20, 30, 50㎝/s. Experimental data of particle deposition velocity were compared with those given by prediction model suggested by Liu and Ahn(1987).
목차
Abstract
1. 서론
2. 실험
3. 결과 및 검토
4. 결론
참고문헌
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