자화된 플라즈마의 특성 및 식각에의 응용

신경섭 ,  이호준 ,  황기웅

대한전기학회 학술대회 논문집

1993 .11

헬리칼 공명 플라즈마의 기판플라즈마밀도에 미치는 축방향자계의 영향

김태현 ,  김문영 ,  장상훈 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .11

헬리콘 플라즈마를 이용한 고선택 산화막 식각 ( A High Selectivity Oxide Etching with a Helicon Plasma )

김윤택 ,  김정훈 ,  김진성 외 1명

대한전자공학회 학술대회

1997 .01

Helical Resonator 배열을 통한 대면적 고밀도 Plasma Source

손민영 ,  김진우 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

펄스 플라즈마를 이용한 식각

양경채 ,  김수강 ,  신예지 외 1명

한국표면공학회 학술발표회 초록집

2018 .11

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향 ( Effects of Plasma Etching Parameter on Gate Oxide Damage during Plasma Etching )

김종호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

플라즈마 식각 조건이 게이트 산화막의 손상에 미치는 영향

김정호 ,  이석현 ,  신기수 외 2명

대한전자공학회 학술대회

1994 .07

E-ICP에 의한 산화막 식각특성

조수범 ,  송호영 ,  박세근 외 1명

대한전자공학회 학술대회

2000 .06

유한요소법에 의한 착자회로 해석

김창업 ,  한송엽

대한전기학회 학술대회 논문집

1989 .07

ECR 플라즈마 식각 장치에서 플라즈마 물성이 식각 특성에 미치는 영향

金正浩 ,  李昈駿 ,  李晳賢 외 1명

전기학회논문지

1993 .04

유도 결합 플라즈마를 이용한 Y₂O₃ 박막의 식각 특성 연구 ( A Study on Etch Characteristics of Y₂O₃ Thin Films in Inductively Coupled Plasma )

김영환 ,  김창일

전자공학회논문지-SD

2001 .09

헬리컬 공명 플라즈마의 특성

장상훈 ,  김태현 ,  김문영 외 1명

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

플라즈마 식각 공정을 위한 3차원 식각 시뮬레이터 개발 ( Development of Three-Dimensional Etching Simulator for a Plasma Etching Process )

권오섭 ,  이제희 ,  윤상호 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1997 .11

자화된 평판형 유도 결합 플라즈마의 특성 및 건식 식각에의 응용

이수부 ,  박헌건 ,  이석현

대한전기학회 학술대회 논문집

1997 .07

식각율 차이를 이용한 곡면 가공

임경진 ,  조수범 ,  이민우 외 4명

한국통신학회 기타 간행물

2004 .11

Remote 플라즈마에서 위치 및 반응기체에 따른 PMMA의 식각 특성 분석

고천광 ,  이원규

화학공학

2006 .01

Helical Resonator 플라즈마 화학증착으로 제조한 Carbon Nitride 박막의 특성평가

김주한 ,  김용환 ,  최동준 외 1명

한국재료학회 학술발표대회

1996 .01

Studies on Highly Selective Oxide Etching using C2F6-CH3F Inductively Coupled Plasma Source

이원석 ,  정상섭 ,  강창진 외 3명

대한전자공학회 학술대회

1998 .01