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Bosch 공정에서 Si 식각속도와 식각프로파일에 대한 Ar 첨가의 영향
화학공학
2013 .01
SF_6/Ar 유도결합플라즈마를 이용한 ZnO 박막의 식각 특성에 관한 연구
전기전자재료학회논문지
2011 .01
SF₆+Ar의 전자수송계수에 관한 연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
SF6, C₄F8, O₂ 가스 변화에 따른 실리콘 식각율과 식각 형태 개선
전기전자재료학회논문지
2008 .01
시뮬레이션에 의한 SF₆-Ar혼합기체의 확산계수
대한전기학회 학술대회 논문집
2014 .10
$SF_6/Ar$플라즈마를 사용한 캐패시터 전극용 백금 박막의 식각 특성
한국재료학회 학술발표대회
2001 .01
저진공 축전결합형 SF, SF/O, SF/CH 플라즈마를 이용한 아크릴의 반응성 건식 식각
한국재료학회지
2009 .01
Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon 의 Deep Groove Etching ( Deep Groove Etching of Silicon by Reactive Ion Etching )
대한전자공학회 학술대회
1985 .01
Reactive Ion Etching 방법에 의한 Silicon의 Deep Groove Etching
대한전자공학회 학술대회
1985 .06
시뮬레이션을 이용한 SF₆-Ar의 전리계수
대한전기학회 학술대회 논문집
2005 .07
Dry etching of Polymethyl methacrylate (PMMA) in capacitively coupled $SF_6,\;SF_6/Ar\;and\;SF_6/CH_4$ plasmas
한국재료학회 학술발표대회
2007 .01
F₂/Ar과 F₂/Ar/N₂ 리모트 플라즈마 산화막 식각에 대한 NO를 첨가효과
한국표면공학회 학술발표회 초록집
2006 .04
에칭 프로세스를 위한 SF₆/O₂ 플라즈마 특성에 관한연구
대한전기학회 학술대회 논문집
2000 .07
적응형 보쉬공정(Adaptive Bosch Process)을 이용한 식각된 바닥면 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
적응형 보쉬공정(Adaptive Bosch Process)을 이용한 식각된 바닥면 연구
대한전자공학회 학술대회
2007 .07
Study of Self-Limiting Etching Behavior in Wet Isotropic Etching of Silicon
International Conference on Electronics, Informations and Communications
1998 .01
Ar+ 이론 주입된 Silicon 기판의 깊은준위 특성
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
저에너지의 Ar 중성빔을 이용한 Silicon의 Atomic Layer Etching
한국재료학회지
2006 .01
Ar+ 이온 주입된 Silicon 기판의 깊은준위 특성 ( Electronic Properties of Deep Level Defects in Ar+ Implanted Silicon )
대한전자공학회 학술대회
1990 .11
Optimization of Etching Profile in Deep-Reactive-Ion Etching for MEMS Processes of Sensors
센서학회지
2015 .01
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