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이승용 (인하대학교) 양승국 (인하대학교) 김한형 (인하대학교) 유한석 (인하대학교) 신상현 (인하대학교) 장동훈 (인하대학교) 이일항 (인하대학교) 오범환 (인하대학교) 이승걸 (인하대학교) 박세근 (인하대학교)
저널정보
대한전자공학회 대한전자공학회 학술대회 대한전자공학회 2007년 하계종합학술대회
발행연도
2007.7
수록면
885 - 886 (2page)

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이 논문의 연구 히스토리 (2)

2007

적응형 보쉬공정(Adaptive Bosch Process)을 이용한 식각된 바닥면 연구
이승용 ,  양승국 ,  김한형 외 7명 대한전자공학회 학술대회 2007.07 학술대회자료
적응형 보쉬공정(Adaptive Bosch Process)을 이용한 식각된 바닥면 연구
이승용 ,  양승국 ,  김한형 외 7명 대한전자공학회 학술대회 2007.07 학술대회자료

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We do not use dedicated Bosch process equipment of high cost, it is uses Bosch process that fit existent ICP(Inductively Coupled Plasma) equipment. Bosch process which is method of deep silicon etching is connected repeatedly in using SF? Plasma for etching process and using C₄F? Plasma the deposition process. However, between etching bottom layer and side wall not verticality and curved layer is formed. It is used about this curved layer phenomenon. because of considering gas fraction, tempera ... 전체 초록 보기

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